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講演抄録/キーワード
講演名 2015-01-27 16:20
[招待講演]非晶質金属ゲート電極FinFETによるばらつき・低周波ノイズ抑制とアナログ・デジタル回路のスケーリング限界の改善
松川 貴福田浩一柳 永勛塚田順一山内洋美石川由紀遠藤和彦大内真一右田真司水林 亘森田行則太田裕之昌原明植産総研SDM2014-145
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文献情報 信学技報, vol. 114, no. 421, SDM2014-145, pp. 41-44, 2015年1月.
資料番号 SDM2014-145 
発行日 2015-01-20 (SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード SDM2014-145

研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2015-01-27 - 2015-01-27 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) 先端CMOSデバイス・ プロセス技術(IEDM特集) 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2015-01-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 非晶質金属ゲート電極FinFETによるばらつき・低周波ノイズ抑制とアナログ・デジタル回路のスケーリング限界の改善 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Scaling Breakthrough for Analog/Digital Circuits by Suppressing Variability and Low-Frequency Noise for FinFETs by Amorphous Metal Gate Technology 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 松川 貴 / Takashi Matsukawa / マツカワ タカシ
第1著者 所属(和/英) 産業総合技術研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 福田 浩一 / Koichi Fukuda / フクダ コウイチ
第2著者 所属(和/英) 産業総合技術研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 柳 永勛 / Yongxun Liu / リュウ ユウシュン
第3著者 所属(和/英) 産業総合技術研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 塚田 順一 / Junichi Tsukada / ツカダ ジュンイチ
第4著者 所属(和/英) 産業総合技術研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 山内 洋美 / Hiromi Yamauchi / ヤマウチ ヒロミ
第5著者 所属(和/英) 産業総合技術研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 石川 由紀 / Yuki Ishikawa / イシカワ ユキ
第6著者 所属(和/英) 産業総合技術研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 遠藤 和彦 / Kazuhiko Endo / エンドウ カズヒコ
第7著者 所属(和/英) 産業総合技術研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 大内 真一 / Shinichi O'uchi / オオウチ シンイチ
第8著者 所属(和/英) 産業総合技術研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 右田 真司 / Shinji Migita / ミギタ シンジ
第9著者 所属(和/英) 産業総合技術研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) 水林 亘 / Wataru Mizubayashi / ミズバヤシ ワタル
第10著者 所属(和/英) 産業総合技術研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) 森田 行則 / Yukinori Morita / モリタ ユキノリ
第11著者 所属(和/英) 産業総合技術研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) 太田 裕之 / Hiroyuki Ota / オオタ ヒロユキ
第12著者 所属(和/英) 産業総合技術研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) 昌原 明植 / Meishoku Masahara / マサハラ メイショク
第13著者 所属(和/英) 産業総合技術研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
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講演者 第1著者 
発表日時 2015-01-27 16:20:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 SDM2014-145 
巻番号(vol) vol.114 
号番号(no) no.421 
ページ範囲 pp.41-44 
ページ数
発行日 2015-01-20 (SDM) 


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