| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 講演論文 詳細 |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
| トップに戻る | 前のページに戻る | [Japanese] / [English] |
| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2015-01-29 09:25 UV光直接描画法を用いたPMMA平面光導波路作製における2段階照射による深さ方向の屈折率分布制御 ○滝沢晃宏・堀内礼子・塙 雅典（山梨大）  PN2014-28 OPE2014-153 LQE2014-140 EST2014-82 MWP2014-50 エレソ技報アーカイブへのリンク：OPE2014-153 LQE2014-140 EST2014-82 MWP2014-50 |
|
| 抄録 | （和） | PMMA(Poly-Methyl Methacrylate)は紫外(UV)光照射によって試料表面層に屈折率上昇が生じる．UV光照射でコアを形成することによって，PMMA平面光導波路作製が可能である．これまでに，強度マスクを用いた平面光導波路作成例が報告されているが，本報告では細径UV光ビームを用いたマスクレスのUV光直接描画法を用いた導波路作製においてコアの深さ方向の制御を行うために2段階でUV光を照射する方法について報告する． 平面光導波路作製にあたり，ＵＶ光照射量に対する屈折率上昇率をエリプソメータを用いて調査し，その結果から直接描画法と2段階照射によるPMMA基板上への導波路作製した．作製した導波路の透過光強度分布を求めることで深さへの影響を40μm程度抑えたことを報告する． |
| （英） | Refractive index increase on PMMA (Poly-Methyl Methacrylate) surface produced by ultraviolet light can be used to form planer lightwave circuit (PLC) on the PMMA sample and formulation of curved waveguides and Mach-Zehnder interferometers using a fine intensity mask was reported so far. To increase in degree of freedom of waveguide formulation, the authors have investigated direct drawing of PMMA-PLC using thin UV beams from a Kr-F excimer laser without any intensity masks. In this report, a trial on waveguide depth control of PMMA-PLCs introducing a two-step irradiation process in the direct drawing is reported. Firstly the amount of refractive index increase on PMMA surface by UV light irradiation measured by using an ellipsometer is reported, then the effect of the two-step irradiation process on the waveguide depth is reported. The experimental results show that the waveguide depth is successfully suppressed within 40 μm by the two-step irradiation process. | |
| キーワード | （和） | PMMA / UV光直接描画 / 平面光導波路 / / / / / |
| （英） | PMMA, / UV light direct drawing / planar waveguides / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 114, no. 431, OPE2014-153, pp. 5-10, 2015年1月. | |
| 資料番号 | OPE2014-153 | |
| 発行日 | 2015-01-22 (PN, OPE, LQE, EST, MWP) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | PN2014-28 OPE2014-153 LQE2014-140 EST2014-82 MWP2014-50 エレソ技報アーカイブへのリンク：OPE2014-153 LQE2014-140 EST2014-82 MWP2014-50 |
|
| 研究会情報 | |
| 研究会 | EST OPE LQE EMT PN MWP IEE-EMT |
| 開催期間 | 2015-01-29 - 2015-01-30 |
| 開催地（和） | 大阪大学 豊中キャンパスΣホール |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | 光-無線融合NW、新周波数（波長）帯デバイス、フォトニックNW・デバイス、フォトニック結晶、ファイバとその応用、光集積回路、光導波路素子、光スイッチング、導波路解析、一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | OPE |
| 会議コード | 2015-01-EST-OPE-LQE-EMT-PN-MWP-EMT |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | UV光直接描画法を用いたPMMA平面光導波路作製における2段階照射による深さ方向の屈折率分布制御 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Waveguide depth control of PMMA-PLCs by two-step irradiation in UV direct drawing |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | PMMA / PMMA, |
| キーワード(2)（和/英） | UV光直接描画 / UV light direct drawing |
| キーワード(3)（和/英） | 平面光導波路 / planar waveguides |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 滝沢 晃宏 / Akihiro Takizawa / タキザワ アキヒロ |
| 第1著者 所属（和/英） | 山梨大学 (略称： 山梨大) Yamanashi University (略称： Yamanashi Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 堀内 礼子 / Reiko Horiuchi / ホリウチ レイコ |
| 第2著者 所属（和/英） | 山梨大学 (略称： 山梨大) Yamanashi University (略称： Yamanashi Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 塙 雅典 / Masanori Hanawa / ハナワ マサノリ |
| 第3著者 所属（和/英） | 山梨大学 (略称： 山梨大) Yamanashi University (略称： Yamanashi Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第4著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第5著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第6著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第7著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第8著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第9著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第9著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第10著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第10著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第11著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第11著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第12著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第12著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第13著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第13著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第14著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第14著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第15著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第15著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第16著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第16著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第17著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第17著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第18著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第18著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2015-01-29 09:25:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | OPE |
| 資料番号 | PN2014-28, OPE2014-153, LQE2014-140, EST2014-82, MWP2014-50 |
| 巻番号（vol） | vol.114 |
| 号番号（no） | no.430(PN), no.431(OPE), no.432(LQE), no.433(EST), no.434(MWP) |
| ページ範囲 | pp.5-10 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2015-01-22 (PN, OPE, LQE, EST, MWP) |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]