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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2015-03-02 13:00 A Fast Lithographic Mask Correction Algorithm ○Ahmd Awad・Atsushi Takahashi（Tokyo Institute of Technology）  VLD2014-153 |
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| 抄録 | （和） | As technology nodes downscaling into sub-16 nm regime, the industry relies heavily on Optical Proximity Correction (OPC) to improve mask pattern transfer fidelity and process window for optical micro-lithography. However, OPC computational time becomes a crucial factor since mask data have to be prepared in manner of hours to cover the huge industrial needs. Nevertheless, there is a trade-off between mask image accuracy and OPC simulation time. In this paper, we propose a new grid based algorithm to improve the accuracy of simulated mask image with the least number of convolutions during OPC process, which is proportional to OPC computational time. We analyze our algorithm and the observations we obtained on public benchmark released by IBM for ICCAD 2013 CAD contest. |
| （英） | As technology nodes downscaling into sub-16 nm regime, the industry relies heavily on Optical Proximity Correction (OPC) to improve mask pattern transfer fidelity and process window for optical micro-lithography. However, OPC computational time becomes a crucial factor since mask data have to be prepared in manner of hours to cover the huge industrial needs. Nevertheless, there is a trade-off between mask image accuracy and OPC simulation time. In this paper, we propose a new grid based algorithm to improve the accuracy of simulated mask image with the least number of convolutions during OPC process, which is proportional to OPC computational time. We analyze our algorithm and the observations we obtained on public benchmark released by IBM for ICCAD 2013 CAD contest. |
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| キーワード | （和） | Optical Lithography / Grids / Mask / Intensity Difference Map / OPC / / / |
| （英） | Optical Lithography / Grids / Mask / Intensity Difference Map / OPC / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 114, no. 476, VLD2014-153, pp. 1-6, 2015年3月. | |
| 資料番号 | VLD2014-153 | |
| 発行日 | 2015-02-23 (VLD) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | VLD2014-153 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | VLD |
| 開催期間 | 2015-03-02 - 2015-03-04 |
| 開催地（和） | 沖縄県青年会館 |
| 開催地（英） | Okinawa Seinen Kaikan |
| テーマ（和） | システムオンシリコンを支える設計技術 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | VLD |
| 会議コード | 2015-03-VLD |
| 本文の言語 | 英語 |
| タイトル（和） | |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | A Fast Lithographic Mask Correction Algorithm |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | Optical Lithography / Optical Lithography |
| キーワード(2)（和/英） | Grids / Grids |
| キーワード(3)（和/英） | Mask / Mask |
| キーワード(4)（和/英） | Intensity Difference Map / Intensity Difference Map |
| キーワード(5)（和/英） | OPC / OPC |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | Ahmd Awad / Ahmd Awad / |
| 第1著者 所属（和/英） | Tokyo Institute of Technology (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Institute of Technology) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | Atsushi Takahashi / Atsushi Takahashi / |
| 第2著者 所属（和/英） | Tokyo Institute of Technology (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Institute of Technology) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2015-03-02 13:00:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | VLD |
| 資料番号 | VLD2014-153 |
| 巻番号（vol） | vol.114 |
| 号番号（no） | no.476 |
| ページ範囲 | pp.1-6 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2015-02-23 (VLD) |
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