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講演抄録/キーワード
講演名
2015-04-30 11:05
非晶質Ge薄膜のAu誘起成長に及ぼすTEOS-SiO2キャップ層の影響
○
工藤和樹
・
草野欽太
・
酒井崇嗣
(
熊本高専
)・
本山慎一
・
楠田 豊
・
古田真浩
(
サムコ
)・
中 庸行
・
沼田朋子
(
堀場製作所
)・
高倉健一郎
・
角田 功
(
熊本高専
)
SDM2015-11 OME2015-11
抄録
(和)
(まだ登録されていません)
(英)
(Not available yet)
キーワード
(和)
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(英)
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文献情報
信学技報, vol. 115, no. 18, SDM2015-11, pp. 41-44, 2015年4月.
資料番号
SDM2015-11
発行日
2015-04-22 (SDM, OME)
ISSN
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード
SDM2015-11 OME2015-11
研究会情報
研究会
OME SDM
開催期間
2015-04-29 - 2015-04-30
開催地(和)
大濱信泉記念館多目的ホール
開催地(英)
Oh-hama Nobumoto Memorial Hall
テーマ(和)
薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術、バイオテクノロジー、および一般
テーマ(英)
Thin FIlms, Functional Electronics Devices, New Functional Materials and Evaluation, BIomtechnology
講演論文情報の詳細
申込み研究会
SDM
会議コード
2015-04-OME-SDM
本文の言語
日本語
タイトル(和)
非晶質Ge薄膜のAu誘起成長に及ぼすTEOS-SiO2キャップ層の影響
サブタイトル(和)
タイトル(英)
Influence of TEOS-SiO2 cap layer on Au induced lateral crystallization for amorphous Ge on insulator
サブタイトル(英)
キーワード(1)(和/英)
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キーワード(2)(和/英)
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キーワード(3)(和/英)
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キーワード(4)(和/英)
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キーワード(5)(和/英)
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キーワード(6)(和/英)
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キーワード(7)(和/英)
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キーワード(8)(和/英)
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
工藤 和樹
/
Kazuki Kudo
/
クドウ カズキ
第1著者 所属(和/英)
熊本高等専門学校
(略称:
熊本高専
)
Kumamoto National College of Technology
(略称:
KNCT
)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
草野 欽太
/
Kinta Kusano
/
クサノ キンタ
第2著者 所属(和/英)
熊本高等専門学校
(略称:
熊本高専
)
Kumamoto National College of Technology
(略称:
KNCT
)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
酒井 崇嗣
/
Takatsugu Sakai
/
サカイ タカツグ
第3著者 所属(和/英)
熊本高等専門学校
(略称:
熊本高専
)
Kumamoto National College of Technology
(略称:
KNCT
)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
本山 慎一
/
Shinichi Motoyama
/
モトヤマ シンイチ
第4著者 所属(和/英)
サムコ株式会社
(略称:
サムコ
)
SAMCO
(略称:
SAMCO
)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
楠田 豊
/
Yutaka Kusuda
/
クスダ ユタカ
第5著者 所属(和/英)
サムコ株式会社
(略称:
サムコ
)
SAMCO
(略称:
SAMCO
)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
古田 真浩
/
Masahiro Furuta
/
フルタ マサヒロ
第6著者 所属(和/英)
サムコ株式会社
(略称:
サムコ
)
SAMCO
(略称:
SAMCO
)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
中 庸行
/
Nobuyuki Naka
/
ナカ ノブユキ
第7著者 所属(和/英)
株式会社堀場製作所
(略称:
堀場製作所
)
HORIBA
(略称:
HORIBA
)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
沼田 朋子
/
Tomoko Numata
/
ヌマタ トモコ
第8著者 所属(和/英)
株式会社堀場製作所
(略称:
堀場製作所
)
HORIBA
(略称:
HORIBA
)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
高倉 健一郎
/
Kenichiro Takakura
/
タカクラ ケンイチロウ
第9著者 所属(和/英)
熊本高等専門学校
(略称:
熊本高専
)
Kumamoto National College of Technology
(略称:
KNCT
)
第10著者 氏名(和/英/ヨミ)
角田 功
/
Isao Tsunoda
/
ツノダ イサオ
第10著者 所属(和/英)
熊本高等専門学校
(略称:
熊本高専
)
Kumamoto National College of Technology
(略称:
KNCT
)
第11著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第11著者 所属(和/英)
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第12著者 所属(和/英)
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第13著者 所属(和/英)
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第14著者 所属(和/英)
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第15著者 所属(和/英)
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第16著者 所属(和/英)
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第19著者 所属(和/英)
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第20著者 所属(和/英)
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第21著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第21著者 所属(和/英)
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第22著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第22著者 所属(和/英)
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第23著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第23著者 所属(和/英)
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第24著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第24著者 所属(和/英)
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第25著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第25著者 所属(和/英)
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第26著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第26著者 所属(和/英)
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第27著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第28著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第28著者 所属(和/英)
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第29著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第29著者 所属(和/英)
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第30著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第30著者 所属(和/英)
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第31著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第31著者 所属(和/英)
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第32著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第32著者 所属(和/英)
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第33著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第33著者 所属(和/英)
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第34著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第34著者 所属(和/英)
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第35著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第35著者 所属(和/英)
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第36著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第36著者 所属(和/英)
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講演者
第1著者
発表日時
2015-04-30 11:05:00
発表時間
25分
申込先研究会
SDM
資料番号
SDM2015-11, OME2015-11
巻番号(vol)
vol.115
号番号(no)
no.18(SDM), no.19(OME)
ページ範囲
pp.41-44
ページ数
4
発行日
2015-04-22 (SDM, OME)
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