お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 【重要】研究会・各種料金のお支払い方法変更について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2015-05-15 14:25
錫めっき接点の微摺動特性における荷重依存
清水 敦齋藤 寧オートネットワーク技研EMD2015-3
抄録 (和) 錫めっき接点を摺動させると、 いわゆる微摺動磨耗により接触界面に酸化物が堆積して接触抵抗が上昇する。しかし、荷重が大きな場合は基材が露出するまで抵抗が低く維持される。銅上のリフロー錫めっきの表面純錫層を剥離した銅錫合金相(Cu6Sn5)どうしを摺動させた場合も同様の荷重依存が見られる。銅錫合金相を低荷重で摺動したときに形成される酸化物はCu,Snの複合酸化物と考えられ、高荷重での摺動ではこの皮膜が形成されないため接触抵抗が低く維持される。リフロー錫めっき接点の摺動も純錫層が酸化したSnO中で点在する銅錫合金相どうしの接触部に複合酸化膜が形成されるか否かで定まる、と考えると荷重依存を説明することができる。 
(英) The contact resistance between tin-plated contacts increases with rubbing under low contact load due to accumulated oxides. On the other hands, the low contact resistance maintains during fretting under high contact load. The contact resistance during fretting between inter metallic compounds (IMC Cu6Sn5) has same dependence of the contact load. The oxide film accumulated on IMC under low contact load is thought to be complex oxide of Cu and Sn. The contact resistance maintains lower under the high contact load without formation of oxide film due to high contact load. The fretting characteristics of reflow tin-plated copper contacts also depend on the formation of oxide film on the IMC layer among SnO formed from pure tin layer.
キーワード (和) 微摺動磨耗 / 接触抵抗 / 錫めっき / 金属間化合物 / 接触荷重 / / /  
(英) Fretting corrosion / Contact resistance / Tin-plate / Inter matallic compound / Contact load / / /  
文献情報 信学技報, vol. 115, no. 32, EMD2015-3, pp. 13-18, 2015年5月.
資料番号 EMD2015-3 
発行日 2015-05-08 (EMD) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード EMD2015-3

研究会情報
研究会 EMD  
開催期間 2015-05-15 - 2015-05-15 
開催地(和) 秋田大学 手形キャンパス 
開催地(英) Akita University Tegata Campus 
テーマ(和) 一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 EMD 
会議コード 2015-05-EMD 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 錫めっき接点の微摺動特性における荷重依存 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Fretting Characteristics about Contact Load of Tin-plated Contacts 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 微摺動磨耗 / Fretting corrosion  
キーワード(2)(和/英) 接触抵抗 / Contact resistance  
キーワード(3)(和/英) 錫めっき / Tin-plate  
キーワード(4)(和/英) 金属間化合物 / Inter matallic compound  
キーワード(5)(和/英) 接触荷重 / Contact load  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 清水 敦 / Atsushi Shimizu / シミズ アツシ
第1著者 所属(和/英) 株式会社オートネットワーク技術研究所 (略称: オートネットワーク技研)
AutoNetwork Technologies, Ltd. (略称: AutoNetwork Tech.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 齋藤 寧 / Yasushi Saitoh / サイトウ ヤスシ
第2著者 所属(和/英) 株式会社オートネットワーク技術研究所 (略称: オートネットワーク技研)
AutoNetwork Technologies, Ltd. (略称: AutoNetwork Tech.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第3著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第4著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第5著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第6著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第21著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第21著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第22著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第22著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第23著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第23著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第24著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第24著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第25著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第25著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第26著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第26著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第27著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第27著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第28著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第28著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第29著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第29著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第30著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第30著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第31著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第31著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第32著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第32著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第33著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第33著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第34著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第34著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第35著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第35著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第36著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第36著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2015-05-15 14:25:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 EMD 
資料番号 EMD2015-3 
巻番号(vol) vol.115 
号番号(no) no.32 
ページ範囲 pp.13-18 
ページ数
発行日 2015-05-08 (EMD) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会