| 研究会情報 |
| 研究会 |
ED |
| 開催期間 |
2015-07-24 - 2015-07-25 |
| 開催地(和) |
ITビジネスプラザ武蔵研修室1(金沢市武蔵町) |
| 開催地(英) |
IT Business Plaza Musashi 5F |
| テーマ(和) |
半導体プロセス・デバイス(表面、界面、信頼性)、一般 |
| テーマ(英) |
Semiconductor Processes and Devices |
| 講演論文情報の詳細 |
| 申込み研究会 |
ED |
| 会議コード |
2015-07-ED |
| 本文の言語 |
日本語 |
| タイトル(和) |
n-GaN自立基板の劈開面に形成したショットキーダイオードの評価 |
| サブタイトル(和) |
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| タイトル(英) |
Characterization of Schottky diodes on cleaved m-plane surface of free-standing n-GaN substrates |
| サブタイトル(英) |
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| キーワード(1)(和/英) |
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| キーワード(2)(和/英) |
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| キーワード(3)(和/英) |
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| キーワード(4)(和/英) |
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| キーワード(7)(和/英) |
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| キーワード(8)(和/英) |
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| 第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
永縄 萌 / Moe Naganawa / ナガナワ モエ |
| 第1著者 所属(和/英) |
福井大学 (略称: 福井大)
University of Fukui (略称: Univ. of Fukui) |
| 第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
青木 俊周 / Toshichika Aoki / アオキ トシチカ |
| 第2著者 所属(和/英) |
福井大学 (略称: 福井大)
University of Fukui (略称: Univ. of Fukui) |
| 第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
三島 友義 / Tomoyoshi Mishima / ミシマ トモヨシ |
| 第3著者 所属(和/英) |
法政大学 (略称: 法政大)
Hosei University (略称: Hosei Univ.) |
| 第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
塩島 謙次 / Kenji Shiojima / シオジマ ケンジ |
| 第4著者 所属(和/英) |
福井大学 (略称: 福井大)
University of Fukui (略称: Univ. of Fukui) |
| 第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第8著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第9著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第24著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第25著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第26著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第27著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第29著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第30著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第31著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第32著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第33著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第34著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第35著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第36著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 講演者 |
第1著者 |
| 発表日時 |
2015-07-24 13:40:00 |
| 発表時間 |
25分 |
| 申込先研究会 |
ED |
| 資料番号 |
ED2015-37 |
| 巻番号(vol) |
vol.115 |
| 号番号(no) |
no.156 |
| ページ範囲 |
pp.5-8 |
| ページ数 |
4 |
| 発行日 |
2015-07-17 (ED) |