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講演抄録/キーワード
講演名 2015-10-22 13:30
マイクロマグネティックスの手法によるアモルファスワイヤの動的磁化過程の解析
上原裕二古屋篤史清水香壱藤崎 淳安宅 正田中智大富士通)・大島弘敬富士通研)・中山幸仁東北大)・薮上 信東北学院大MR2015-15
抄録 (和) 磁気センサ等に適用されているアモルファスワイヤの動的磁化過程について,Landau-Lifshitz-Gilbert (LLG)方程式に基づくマイクロマグネティックシミュレーションを行った.高周波での磁気インピーダンス(MI)効果を解析するためには,表皮効果や磁気共鳴の影響を考慮する必要がある.今回はMaxwell方程式から渦電流を考慮した電流磁界を導出し,LLG方程式を連成して解くことによりワイヤ内の動的磁化挙動を解析した.シミュレーション結果はアモルファスワイヤのインピーダンス測定値と非常に良く一致することを確認した. 
(英) Magnetoimpedance (MI) sensors with ultrahigh sensitivity have been studied for application to wearable computers and medical devices . To realize these applications, it is of prime importance to analyze dynamic magnetization process in amorphous wires. In this paper, we introduce micromagnetic analysis of dynamic magnetization process in an amorphous wire by using the Landau-Lifshitz-Gilbert (LLG) equation taking into account the eddy current field derived from Maxwell’s equations. The simulation results are in good agreement with the experimental results.
キーワード (和) マイクロマグネティックス / LLG方程式 / アモルファスワイヤ / 磁界センサ / MI効果 / 磁気共鳴 / 表皮効果 /  
(英) Micromagnetics / LLG / Amorphous wire / Magnetic sensor / Magnetoimpedance / FMR / Skin depth /  
文献情報 信学技報, vol. 115, 2015年10月.
資料番号  
発行日 2015-10-15 (MR) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
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技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
査読に
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本技術報告は査読を経ていない技術報告であり,推敲を加えられていずれかの場に発表されることがあります.
PDFダウンロード MR2015-15

研究会情報
研究会 MRIS ITE-MMS  
開催期間 2015-10-22 - 2015-10-23 
開催地(和) 大阪大学吹田キャンパス 
開催地(英) Osaka Univ. 
テーマ(和) ヘッド・スピントロ二クス+一般 
テーマ(英) Recording Head, Spintronics, etc 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 MRIS 
会議コード 2015-10-MR-MMS 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) マイクロマグネティックスの手法によるアモルファスワイヤの動的磁化過程の解析 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Micromagnetic analysis of dynamic magnetization process in an amorphous wire for MI sensor 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) マイクロマグネティックス / Micromagnetics  
キーワード(2)(和/英) LLG方程式 / LLG  
キーワード(3)(和/英) アモルファスワイヤ / Amorphous wire  
キーワード(4)(和/英) 磁界センサ / Magnetic sensor  
キーワード(5)(和/英) MI効果 / Magnetoimpedance  
キーワード(6)(和/英) 磁気共鳴 / FMR  
キーワード(7)(和/英) 表皮効果 / Skin depth  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 上原 裕二 / Yuji Uehara / ウエハラ ユウジ
第1著者 所属(和/英) 富士通株式会社 (略称: 富士通)
Fujitsu Ltd. (略称: Fujitsu)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 古屋 篤史 / Atsushi Furuya / フルヤ アツシ
第2著者 所属(和/英) 富士通株式会社 (略称: 富士通)
Fujitsu Ltd. (略称: Fujitsu)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 清水 香壱 / Koichi Shimizu / シミズ コウイチ
第3著者 所属(和/英) 富士通株式会社 (略称: 富士通)
Fujitsu Ltd. (略称: Fujitsu)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 藤崎 淳 / Jun Fujisaki / フジサキ ジュン
第4著者 所属(和/英) 富士通株式会社 (略称: 富士通)
Fujitsu Ltd. (略称: Fujitsu)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 安宅 正 / Tadashi Ataka / アタカ タダシ
第5著者 所属(和/英) 富士通株式会社 (略称: 富士通)
Fujitsu Ltd. (略称: Fujitsu)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 田中 智大 / Tomohiro Tanaka / タナカ トモヒロ
第6著者 所属(和/英) 富士通株式会社 (略称: 富士通)
Fujitsu Ltd. (略称: Fujitsu)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 大島 弘敬 / Hirotaka Oshima / オオシマ ヒロタカ
第7著者 所属(和/英) 株式会社富士通研究所 (略称: 富士通研)
Fujitsu Laboratories Ltd. (略称: Fujitsu Lab.)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 中山 幸仁 / Koji S. Nakayama / ナカヤマ コウジ
第8著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku University)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 薮上 信 / Shin Yabukami / ヤブカミ シン
第9著者 所属(和/英) 東北学院大学 (略称: 東北学院大)
Tohoku Gakuin University (略称: Tohoku Gakuin University)
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講演者 第1著者 
発表日時 2015-10-22 13:30:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 MRIS 
資料番号 MR2015-15 
巻番号(vol) vol.115 
号番号(no) no.263 
ページ範囲 pp.1-5 
ページ数
発行日 2015-10-15 (MR) 


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