ご案内 入会して研究会活動をもっとお得に!研究会参加費・年間登録費が会員価格になります。
お知らせ 【重要】研究会参加費の支払いおよび原稿アップロード手続きの変更に関するご案内
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2015-11-06 11:00
[招待講演]歪みグラフェンを用いたディラック電子エンジニアリング素子のシミュレーション
相馬聡文田中未来市原圭祐迫田翔太郎笹岡健二小川真人神戸大SDM2015-89
抄録 (和) シリコンMOSFETの微細化に伴う発熱等の問題を克服するために,新材料,新構造,
新制御機構が様々に提案されている.本論文では,歪み印加グラフェンを利用した
低消費電力型素子の可能性に注目したシミュレーション研究について述べる.グラフェンのフェルミエネルギー付近の電子はバンドギャップを持たない質量ゼロのディラック電子としての振る舞うが,局所的な歪みを印加する事で,このディラック電子の円錐状バンドが波数空間で変位する.その効果(擬似磁場効果)を利用する事で,バンドギャップが存在しないにも係らず,バンド間トンネルFETに類似した急峻なスイッチング(60mV/decadeを下回るS値)が可能になる.このようなディラック電子エンジニアリングを用いたグラフェン素子のシミュレーション手法及び結果について,原子論的シミュレーション,有効方程式モデル両方の観点から述べる. 
(英) MOSFET has been scaled down according to the Moore's law. As the channel length gets close to the nanometer-size, however, various kinds of leakage current are generated, and the heat caused from such leakage current becomes a critical problem. To solve this problem, it is necessary to make a channel material that has the channel length of nanoscale and small amount of leak current. At the same time, steep switching characteristic [i.e. lower subthreshold slope (SS)] is desired. In this paper, we present our simulation study of the electronic transport in field effect transistors based on the strained graphene, where the engineering of Dirac-type electron enables us to obtain sub 60 mV/decade SS.
キーワード (和) グラフェン / 歪み / 擬似磁場効果 / ディラック電子 / シミュレーション / / /  
(英) graphene / strain / pseudo magnetic field / Dirac electron / simulation / / /  
文献情報 信学技報, vol. 115, no. 292, SDM2015-89, pp. 29-34, 2015年11月.
資料番号 SDM2015-89 
発行日 2015-10-29 (SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード SDM2015-89

研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2015-11-05 - 2015-11-06 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般 
テーマ(英) Process, Device, and Circuit Simulation, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2015-11-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 歪みグラフェンを用いたディラック電子エンジニアリング素子のシミュレーション 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Simulation of Dirac Electron Engineering Device Using Strained Graphene 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) グラフェン / graphene  
キーワード(2)(和/英) 歪み / strain  
キーワード(3)(和/英) 擬似磁場効果 / pseudo magnetic field  
キーワード(4)(和/英) ディラック電子 / Dirac electron  
キーワード(5)(和/英) シミュレーション / simulation  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 相馬 聡文 / Satofumi Souma / ソウマ サトフミ
第1著者 所属(和/英) 神戸大学 (略称: 神戸大)
Kobe University (略称: Kobe Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 田中 未来 / Miku Tanaka / タナカ ミク
第2著者 所属(和/英) 神戸大学 (略称: 神戸大)
Kobe University (略称: Kobe Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 市原 圭祐 / Keisuke Ichihara / イチハラ ケイスケ
第3著者 所属(和/英) 神戸大学 (略称: 神戸大)
Kobe University (略称: Kobe Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 迫田 翔太郎 / Shotaro Sakoda / サコダ ショウタロウ
第4著者 所属(和/英) 神戸大学 (略称: 神戸大)
Kobe University (略称: Kobe Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 笹岡 健二 / Kenji Sasaoka / ササオカ ケンジ
第5著者 所属(和/英) 神戸大学 (略称: 神戸大)
Kobe University (略称: Kobe Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 小川 真人 / Matsuto Ogawa / オガワ マツト
第6著者 所属(和/英) 神戸大学 (略称: 神戸大)
Kobe University (略称: Kobe Univ.)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第21著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第21著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第22著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第22著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第23著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第23著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第24著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第24著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第25著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第25著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第26著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第26著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第27著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第27著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第28著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第28著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第29著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第29著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第30著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第30著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第31著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第31著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第32著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第32著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第33著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第33著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第34著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第34著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第35著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第35著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第36著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第36著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2015-11-06 11:00:00 
発表時間 50分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 SDM2015-89 
巻番号(vol) vol.115 
号番号(no) no.292 
ページ範囲 pp.29-34 
ページ数
発行日 2015-10-29 (SDM) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会