| 講演抄録/キーワード |
| 講演名 |
2016-01-28 14:00
[招待講演]Si上異種半導体集積によるCMOSフォトニクス ○竹中 充・金 栄現・韓 在勲・亢 健・一宮佑希・程 勇鵬・朴 珍權・金 相賢・高木信一(東大) SDM2015-124 |
| 抄録 |
(和) |
本論文では,Siプラットフォーム上にSiGeやGe,III-V族半導体を集積することで光電子集積回路を実現するCMOSフォトニクス技術に関する我々の研究成果を紹介する. 我々は,歪SiGe中の軽い正孔を用いた高性能光変調器の実証に成功した.また,フォトニクス応用可能なGe-on-Insulator基板を用いたGeフォトニクスの実証に成功した.III-V on Insulator基板を用いた光スイッチや受光器の作製にも成功している.Si基板上に成長したIII-V層を用いて基板口径スケーラブルなIII-V-OI基板の実証にも成功した. |
| (英) |
In this paper, we present heterogeneous integration of SiGe/Ge and III-V semiconductors on Si for electronic-photonic integrated circuits through CMOS photonics technologies. As for SiGe CMOS photonics, strained SiGe is shown to enhance modulation efficiency for optical modulators. We demonstrated that the plasma dispersion effect is enhanced by strain application to SiGe owing to a decrease in the effective hole mass. As for Ge CMOS photonics, Ge-based photonic-wire waveguides are demonstrated for Mid-IR applications by using photonic Ge-on-Insulator wafers for the first time. As for III-V CMOS photonics, we developed high-quality photonic III-V on Insulator wafers by using direct wafer bonding. InGaAsP photonic-wire devices including optical switches and InGaAs photodetectors are demonstrated. We have also successfully demonstrated wafer-size-scalable III-V-OI wafers by using a III-V epi on Si wafer. |
| キーワード |
(和) |
Siフォトニクス / SiGe / Ge / III-V族半導体 / 光電子集積回路 / / / |
| (英) |
Si photonics / SiGe / Ge / III-V semiconductors / electronic-photonic integrated circuits / / / |
| 文献情報 |
信学技報, vol. 115, no. 440, SDM2015-124, pp. 17-20, 2016年1月. |
| 資料番号 |
SDM2015-124 |
| 発行日 |
2016-01-21 (SDM) |
| ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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SDM2015-124 |