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講演抄録/キーワード
講演名 2017-02-06 15:35
[招待講演]ビアラスト型TSVの高留まり化のためのウエット洗浄プロセスの開発
渡辺直也産総研)・菊地秀和柳澤あづさラピス)・島本晴夫菊地克弥青柳昌宏産総研)・中村彰男ラピスSDM2016-145 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2016-145
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文献情報 信学技報, vol. 116, no. 450, SDM2016-145, pp. 35-40, 2017年2月.
資料番号 SDM2016-145 
発行日 2017-01-30 (SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
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研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2017-02-06 - 2017-02-06 
開催地(和) 東京大学/本郷 
開催地(英) Tokyo Univ. 
テーマ(和) 配線・実装技術と関連材料技術 
テーマ(英) Interconnects, Package and related materials 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2017-02-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) ビアラスト型TSVの高留まり化のためのウエット洗浄プロセスの開発 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Development of a Wet Cleaning Process for High-Yield Formation of via-last TSVs 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 渡辺 直也 / Naoya Watanabe / ワタナベ ナオヤ
第1著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 菊地 秀和 / Hidekazu Kikuchi / キクチ ヒデカズ
第2著者 所属(和/英) ラピスセミコンダクタ株式会社 (略称: ラピス)
LAPIS Semiconductor Co., Ltd. (略称: LAPIS)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 柳澤 あづさ / Azusa Yanagisawa / ヤナギサワ アヅサ
第3著者 所属(和/英) ラピスセミコンダクタ株式会社 (略称: ラピス)
LAPIS Semiconductor Co., Ltd. (略称: LAPIS)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 島本 晴夫 / Haruo Shimamoto / シマモト ハルオ
第4著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 菊地 克弥 / Katsuya Kikuchi / キクチ カツヤ
第5著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 青柳 昌宏 / Masahiro Aoyagi / アオヤギ マサヒロ
第6著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 中村 彰男 / Akio Nakamura / ナカムラ アキオ
第7著者 所属(和/英) ラピスセミコンダクタ株式会社 (略称: ラピス)
LAPIS Semiconductor Co., Ltd. (略称: LAPIS)
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講演者 第1著者 
発表日時 2017-02-06 15:35:00 
発表時間 35分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 SDM2016-145 
巻番号(vol) vol.116 
号番号(no) no.450 
ページ範囲 pp.35-40 
ページ数
発行日 2017-01-30 (SDM) 


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