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| 講演名 | 2017-12-01 10:55 フォトニック結晶深紫外LEDの実現 ～ p型コンタクト層における高反射型フォトニック結晶によるAlGaN深紫外LEDの外部量子効率10%動作 ～ ○鹿嶋行雄（丸文）・前田哲利（理研）・松浦恵里子（丸文）・定 昌史（理研）・岩井 武・森田敏郎（東京応化）・小久保光典・田代貴晴（東芝機械）・上村隆一郎・長田大和（アルバック）・倉島優一・高木秀樹（産総研）・平山秀樹（理研）  ED2017-60 CPM2017-103 LQE2017-73 エレソ技報アーカイブへのリンク：ED2017-60 CPM2017-103 LQE2017-73 |
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| 抄録 | （和） | (まだ登録されていません) |
| （英） | (Not available yet) | |
| キーワード | （和） | / / / / / / / |
| （英） | / / / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 117, no. 333, LQE2017-73, pp. 55-60, 2017年11月. | |
| 資料番号 | LQE2017-73 | |
| 発行日 | 2017-11-23 (ED, CPM, LQE) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | LQE CPM ED |
| 開催期間 | 2017-11-30 - 2017-12-01 |
| 開催地（和） | 名古屋工業大学 |
| 開催地（英） | Nagoya Inst. tech. |
| テーマ（和） | 窒化物半導体光・電子デバイス、材料、関連技術、及び一般 |
| テーマ（英） | Nitride Semiconductor Devices, Materials, Related Technologies |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | LQE |
| 会議コード | 2017-11-LQE-CPM-ED |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | フォトニック結晶深紫外LEDの実現 |
| サブタイトル（和） | p型コンタクト層における高反射型フォトニック結晶によるAlGaN深紫外LEDの外部量子効率10%動作 |
| タイトル（英） | Achievement of AlGaN deep-UV LED using photonic crystal(PhC) |
| サブタイトル（英） | Achievement of high-EQE(10%) AlGaN deep-UV LED using highly-reflective PhC on p-contact layer |
| キーワード(1)（和/英） | / |
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| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 鹿嶋 行雄 / Yukio Kashima / カシマ ユキオ |
| 第1著者 所属（和/英） | 丸文株式会社 (略称： 丸文) Marubun Corporation (略称： Marubun) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 前田 哲利 / Noritoshi Maeda / マエダ ノリトシ |
| 第2著者 所属（和/英） | 理化学研究所 (略称： 理研) THE INSTITUTE OF PHYSICAL AND CHEMICAL RESEARCH (略称： RIKEN) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 松浦 恵里子 / Eriko Matsuura / マツウラ エリコ |
| 第3著者 所属（和/英） | 丸文株式会社 (略称： 丸文) Marubun Corporation (略称： Marubun) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 定 昌史 / Masafumi Jo / ジョウ マサフミ |
| 第4著者 所属（和/英） | 理化学研究所 (略称： 理研) THE INSTITUTE OF PHYSICAL AND CHEMICAL RESEARCH (略称： RIKEN) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 岩井 武 / Takeshi Iwai / イワイ タケシ |
| 第5著者 所属（和/英） | 東京応化工業株式会社 (略称： 東京応化) TOKYO OHKA KOGYO ., LTD (略称： TOK) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 森田 敏郎 / Toshiro Morita / モリタ トシロウ |
| 第6著者 所属（和/英） | 東京応化工業株式会社 (略称： 東京応化) TOKYO OHKA KOGYO ., LTD (略称： TOK) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小久保 光典 / Mitsunori Kokubo / コクボ ミツノリ |
| 第7著者 所属（和/英） | 東芝機械株式会社 (略称： 東芝機械) TOSHIBA MACHINE CO ., LTD (略称： TOSHIBA MACHINE) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | 田代 貴晴 / Takaharu Tashiro / タシロ タカハル |
| 第8著者 所属（和/英） | 東芝機械株式会社 (略称： 東芝機械) TOSHIBA MACHINE CO ., LTD (略称： TOSHIBA MACHINE) |
| 第9著者 氏名（和/英/ヨミ） | 上村 隆一郎 / Ryuichiro Kamimura / カミムラ リュウイチロウ |
| 第9著者 所属（和/英） | 株式会社 アルバック (略称： アルバック) ULVAC,Inc. (略称： ULVAC) |
| 第10著者 氏名（和/英/ヨミ） | 長田 大和 / Yamato Osada / オサダ ヤマト |
| 第10著者 所属（和/英） | 株式会社 アルバック (略称： アルバック) ULVAC,Inc. (略称： ULVAC) |
| 第11著者 氏名（和/英/ヨミ） | 倉島 優一 / Yuichi Kurashima / クラシマ ユウイチ |
| 第11著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 (略称： 産総研) ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY (略称： AIST) |
| 第12著者 氏名（和/英/ヨミ） | 高木 秀樹 / Hideki Takagi / タカギ ヒデキ |
| 第12著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 (略称： 産総研) ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY (略称： AIST) |
| 第13著者 氏名（和/英/ヨミ） | 平山 秀樹 / Hideki Hirayama / ヒラヤマ ヒデキ |
| 第13著者 所属（和/英） | 理化学研究所 (略称： 理研) THE INSTITUTE OF PHYSICAL AND CHEMICAL RESEARCH (略称： RIKEN) |
| 第14著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
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| 第18著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第18著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2017-12-01 10:55:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | LQE |
| 資料番号 | ED2017-60, CPM2017-103, LQE2017-73 |
| 巻番号（vol） | vol.117 |
| 号番号（no） | no.331(ED), no.332(CPM), no.333(LQE) |
| ページ範囲 | pp.55-60 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2017-11-23 (ED, CPM, LQE) |
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