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講演抄録/キーワード
講演名 2017-12-07 13:15
[ポスター講演]シリコン基板上への磁性ガーネット薄膜形成と検討と評価
飯島夏来石黒一希武田正行西澤武志中津原克己神奈川工科大)・野毛 悟沼津高専)・水本哲弥庄司雄哉東工大OPE2017-109 エレソ技報アーカイブへのリンク:OPE2017-109
抄録 (和) 高速で柔軟な光ファイバ通信システムを実現するためには光デバイスの安定な動作が重要であり、そのためには、反射戻り光や不要光の入射を防止する必要がある。シリコン導波路上集積可能な光アイソレータが形成されれば、小型で高機能な光集積回路が実現できる。今回、シリコン基板上にCe:YIG膜を装荷し、高配向化が見られたため報告する。 
(英) A magneto-optical isolator is indispensable for protecting optical devices from unwanted reflections. The isolator employing a magneto-optic garnet Ce:YIG directly onto a silicon waveguide is very attractive for realizing photonics integrated circuits. In this report, processing is carried out by loading a Ce:YIG film on a silicon substrate. As a result, high orientation is observed.
キーワード (和) 磁性ガーネット / Ce:YIG / シリコン導波路 / 光アイソレータ / / / /  
(英) Magnetic garnet / Ce:YIG / Silicon Waveguides / Optical isolator / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 117, no. 339, OPE2017-109, pp. 103-106, 2017年12月.
資料番号 OPE2017-109 
発行日 2017-11-30 (OPE) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード OPE2017-109 エレソ技報アーカイブへのリンク:OPE2017-109

研究会情報
研究会 OPE  
開催期間 2017-12-07 - 2017-12-08 
開催地(和) まりんぴあみやこ 
開催地(英)  
テーマ(和) 光パッシブコンポーネント(フィルタ,コネクタ,MEMS)、シリコンフォトニクス、その他一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 OPE 
会議コード 2017-12-OPE 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) シリコン基板上への磁性ガーネット薄膜形成と検討と評価 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Fabrication and evaluation of magnetic garnet thin films on silicon substrates 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 磁性ガーネット / Magnetic garnet  
キーワード(2)(和/英) Ce:YIG / Ce:YIG  
キーワード(3)(和/英) シリコン導波路 / Silicon Waveguides  
キーワード(4)(和/英) 光アイソレータ / Optical isolator  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 飯島 夏来 / Natsuki Iijima / イイジマ ナツキ
第1著者 所属(和/英) 神奈川工科大学 (略称: 神奈川工科大)
Kanagawa Institute of Technology (略称: KAIT)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 石黒 一希 / Kazuki Isiguro / イシグロ カズキ
第2著者 所属(和/英) 神奈川工科大学 (略称: 神奈川工科大)
Kanagawa Institute of Technology (略称: KAIT)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 武田 正行 / Masayuki Takeda / タケダ マサユキ
第3著者 所属(和/英) 神奈川工科大学 (略称: 神奈川工科大)
Kanagawa Institute of Technology (略称: KAIT)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 西澤 武志 / Takeshi Nishizawa /
第4著者 所属(和/英) 神奈川工科大学 (略称: 神奈川工科大)
Kanagawa Institute of Technology (略称: KAIT)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 中津原 克己 / Katumi Nakatsuhara / ナカツハラ カツミ
第5著者 所属(和/英) 神奈川工科大学 (略称: 神奈川工科大)
Kanagawa Institute of Technology (略称: KAIT)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 野毛 悟 / Satoru Noge / ノゲ サトル
第6著者 所属(和/英) 沼津工業高等専門学校 (略称: 沼津高専)
National Institute of Technology, Numazu College (略称: NIT, Numazu College)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 水本 哲弥 / Tetsuya Mizumoto / ミズモト テツヤ
第7著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 庄司 雄哉 / Yuya Shoji / ショウジ ユウヤ
第8著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech)
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講演者 第1著者 
発表日時 2017-12-07 13:15:00 
発表時間 100分 
申込先研究会 OPE 
資料番号 OPE2017-109 
巻番号(vol) vol.117 
号番号(no) no.339 
ページ範囲 pp.103-106 
ページ数
発行日 2017-11-30 (OPE) 


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