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講演抄録/キーワード
講演名 2017-12-19 09:00
[招待講演]アンチモン系トランジスタの開発
藤代博記磯野恭佑高橋択斗原田義彬岡 直希竹内 淳藤澤由衣東京理科大)・藤川紗千恵東京電機大)・町田龍人東京理科大)・渡邊一世山下良美遠藤 聡原 紳介笠松章史NICTED2017-81
抄録 (和) 量子補正モンテカルロ法を用いた解析により,InSb HEMTは電子有効質量m*が小さいために電子移動度μと電子速度vdが高く,0.2 V程度の低いVdsから真性fTが1 THzを超えることを示した。またLg短縮による真性fTの上限値を1.98 THzと見積もった。小さいm*は速度ばらつきσv2を増加させるが,低Vds動作により電子温度Telの上昇が抑えられ,またgmが高いために,NFminは100 GHzで0.31 dB (Vds = 0.2 V)となった。抵抗加熱蒸着SiOx膜を用いたダメージレスプロセスを開発し,InSb HEMTを作製した。Lg = 50 nmにおいてfT = 302 GHz (Vds = 0.5 V)を得た。また2段リセス形状ではfT = 316 GHz (Vds = 0.5 V) を得た。高いμと電子濃度Nsを実現するためにInSb/Ga0.35In0.65Sb複合チャネルを作製し,μ = 13,280 cm2/Vs,Ns = 2.27×1012 cm-2,シート抵抗Rs = 207 Ω/□ の特性を得た。これらはInSbチャネルと比較して,それぞれ25 %減小,114 %増加,37 %減少した。 
(英) Quantum corrected Monte Carlo simulation shows that the InSb HEMT exhibits intrinsic fT more than 1 THz from Vds of around 0.2 V, because of the higher μ and electron velocity vd coming from the smallest m*. Upper limit of intrinsic fT is estimated to be 1.98 THz. The small m* makes velocity fluctuation σv2 larger, however, it also enables low Vds operation that suppresses electron heating. Then, along with the large gm, NFmin is estimated to be 0.31 dB at 100 GHz (Vds = 0.2 V). The InSb HEMT is fabricated by damage-less process using evaporated SiOx film. The devices with single and double recess structures exhibit fT of 302 and 316 GHz, respectively (Vds = 0.5 V, Lg = 50 nm). The InSb/Ga0.35In0.65Sb composite channel is developed to increase μ and 2DEG density Ns, simultaneously. This exhibits μ of 13,280 cm2/Vs, Ns of 2.27×1012 cm-2 and sheet resistance Rs of 207 Ω/□, which are 25 % lower, 114 % larger and 37 % lower than the InSb channel.
キーワード (和) InSb / GaInSb / 高電子移動度トランジスタ / テラヘルツ / 遮断周波数 / 最小雑音指数 / /  
(英) InSb / GaInSb / High Electron Mobility Transistor / Teraheltz / Cutoff Frequency / Minimum Noise Figure / /  
文献情報 信学技報, vol. 117, no. 364, ED2017-81, pp. 33-36, 2017年12月.
資料番号 ED2017-81 
発行日 2017-12-11 (ED) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード ED2017-81

研究会情報
研究会 ED THz  
開催期間 2017-12-18 - 2017-12-19 
開催地(和) 東北大通研ナノ・スピン棟 
開催地(英) RIEC, Tohoku Univ 
テーマ(和) ミリ波・テラヘルツ波デバイス・システム 
テーマ(英) Millimeter-wave, terahertz-wave devices and systems 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 ED 
会議コード 2017-12-ED-THz 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) アンチモン系トランジスタの開発 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Development of Antimonide-Based Transistors 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) InSb / InSb  
キーワード(2)(和/英) GaInSb / GaInSb  
キーワード(3)(和/英) 高電子移動度トランジスタ / High Electron Mobility Transistor  
キーワード(4)(和/英) テラヘルツ / Teraheltz  
キーワード(5)(和/英) 遮断周波数 / Cutoff Frequency  
キーワード(6)(和/英) 最小雑音指数 / Minimum Noise Figure  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 藤代 博記 / Hiroki Fujishiro / フジシロ ヒロキ
第1著者 所属(和/英) 東京理科大学 (略称: 東京理科大)
Tokyo University of Science (略称: TUS)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 磯野 恭佑 / Kyosuke Isono / イソノ キョウスケ
第2著者 所属(和/英) 東京理科大学 (略称: 東京理科大)
Tokyo University of Science (略称: TUS)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 高橋 択斗 / Takuto Takahashi / タカハシ タクト
第3著者 所属(和/英) 東京理科大学 (略称: 東京理科大)
Tokyo University of Science (略称: TUS)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 原田 義彬 / Yoshiaki Harada / ハラダ ヨシアキ
第4著者 所属(和/英) 東京理科大学 (略称: 東京理科大)
Tokyo University of Science (略称: TUS)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 岡 直希 / Naoki Oka / オカ ナオキ
第5著者 所属(和/英) 東京理科大学 (略称: 東京理科大)
Tokyo University of Science (略称: TUS)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 竹内 淳 / Jun Takeuchi / タケウチ ジュン
第6著者 所属(和/英) 東京理科大学 (略称: 東京理科大)
Tokyo University of Science (略称: TUS)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 藤澤 由衣 / Yui Fujisawa / フジサワ ユイ
第7著者 所属(和/英) 東京理科大学 (略称: 東京理科大)
Tokyo University of Science (略称: TUS)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 藤川 紗千恵 / Sachie Fujikawa / フジカワ サチエ
第8著者 所属(和/英) 東京電機大学 (略称: 東京電機大)
Tokyo Denki University (略称: Tokyo Denki Univ.)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 町田 龍人 / Ryuto Machida / マチダ リュウト
第9著者 所属(和/英) 東京理科大学 (略称: 東京理科大)
Tokyo University of Science (略称: TUS)
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) 渡邊 一世 / Issei Watanabe / ワタナベ イッセイ
第10著者 所属(和/英) 情報通信研究機構 (略称: NICT)
National Institute of Information and Communications Technology (略称: NICT)
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) 山下 良美 / Yoshimi Yamashita / ヤマシタ ヨシミ
第11著者 所属(和/英) 情報通信研究機構 (略称: NICT)
National Institute of Information and Communications Technology (略称: NICT)
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) 遠藤 聡 / Akira Endoh / エンドウ アキラ
第12著者 所属(和/英) 情報通信研究機構 (略称: NICT)
National Institute of Information and Communications Technology (略称: NICT)
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) 原 紳介 / Shinsuke Hara / ハラ シンスケ
第13著者 所属(和/英) 情報通信研究機構 (略称: NICT)
National Institute of Information and Communications Technology (略称: NICT)
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) 笠松 章史 / Akifumi Kasamatsu / カサマツ アキフミ
第14著者 所属(和/英) 情報通信研究機構 (略称: NICT)
National Institute of Information and Communications Technology (略称: NICT)
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講演者 第1著者 
発表日時 2017-12-19 09:00:00 
発表時間 40分 
申込先研究会 ED 
資料番号 ED2017-81 
巻番号(vol) vol.117 
号番号(no) no.364 
ページ範囲 pp.33-36 
ページ数
発行日 2017-12-11 (ED) 


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