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講演抄録/キーワード
講演名
2018-02-08 10:05
[招待講演]クラスター気相合成法で形成したWSin (n=12)挿入膜を用いたCu直接コンタクト
○
岡田直也
・
内田紀行
・
小川真一
・
遠藤和彦
・
金山敏彦
(
産総研
)
SDM2017-97
エレソ技報アーカイブへのリンク:
SDM2017-97
抄録
(和)
(まだ登録されていません)
(英)
(Not available yet)
キーワード
(和)
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(英)
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文献情報
信学技報, vol. 117, no. 429, SDM2017-97, pp. 1-4, 2018年2月.
資料番号
SDM2017-97
発行日
2018-02-01 (SDM)
ISSN
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
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SDM2017-97
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SDM2017-97
研究会情報
研究会
SDM
開催期間
2018-02-08 - 2018-02-08
開催地(和)
東京大学/本郷
開催地(英)
Tokyo Univ.
テーマ(和)
配線・実装技術と関連材料技術
テーマ(英)
講演論文情報の詳細
申込み研究会
SDM
会議コード
2018-02-SDM
本文の言語
日本語
タイトル(和)
クラスター気相合成法で形成したWSin (n=12)挿入膜を用いたCu直接コンタクト
サブタイトル(和)
タイトル(英)
Cluster-Preforming-Deposited Amorphous WSin (n = 12) Insertion Film of Low SBH and High Diffusion Barrier for Direct Cu Contact
サブタイトル(英)
キーワード(1)(和/英)
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キーワード(2)(和/英)
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キーワード(3)(和/英)
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キーワード(4)(和/英)
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キーワード(5)(和/英)
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キーワード(6)(和/英)
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キーワード(7)(和/英)
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キーワード(8)(和/英)
/
第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
岡田 直也
/
Naoya Okada
/
オカダ ナオヤ
第1著者 所属(和/英)
産業技術総合研究所
(略称:
産総研
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
(略称:
AIST
)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
内田 紀行
/
Noriyuki Uchida
/
ウチダ ノリユキ
第2著者 所属(和/英)
産業技術総合研究所
(略称:
産総研
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
(略称:
AIST
)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
小川 真一
/
Shinichi Ogawa
/
オガワ シンイチ
第3著者 所属(和/英)
産業技術総合研究所
(略称:
産総研
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
(略称:
AIST
)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
遠藤 和彦
/
Kazuhiko Endo
/
エンドウ カズヒコ
第4著者 所属(和/英)
産業技術総合研究所
(略称:
産総研
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
(略称:
AIST
)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
金山 敏彦
/
Toshihiko Kanayama
/
カナヤマ トシヒコ
第5著者 所属(和/英)
産業技術総合研究所
(略称:
産総研
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
(略称:
AIST
)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第6著者 所属(和/英)
(略称: )
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第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第7著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第8著者 所属(和/英)
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(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第9著者 所属(和/英)
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第10著者 所属(和/英)
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第11著者 所属(和/英)
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第12著者 所属(和/英)
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第13著者 所属(和/英)
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第14著者 所属(和/英)
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(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第15著者 所属(和/英)
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(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第16著者 所属(和/英)
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第17著者 所属(和/英)
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第18著者 所属(和/英)
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第19著者 所属(和/英)
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第20著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
講演者
第1著者
発表日時
2018-02-08 10:05:00
発表時間
40分
申込先研究会
SDM
資料番号
SDM2017-97
巻番号(vol)
vol.117
号番号(no)
no.429
ページ範囲
pp.1-4
ページ数
4
発行日
2018-02-01 (SDM)
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