講演抄録/キーワード |
講演名 |
2018-02-08 11:25
[招待講演]銅配線のためのグラフェンキャップ膜の耐湿バリア性 ○上野和良・ゴマサン プロイブッサラ・阿部拓実(芝浦工大)・河原憲治(九大)・和才容子(堀場テクノサービス)・グエン タン クン(物質・材料研究機構)・ナバトバ-ガバイン ナタリヤ(堀場テクノサービス)・吾郷浩樹(九大)・岡田 晋(筑波大) SDM2017-98 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2017-98 |
抄録 |
(和) |
原子層薄膜のグラフェンはCu配線のバリア膜として注目されている。本研究では、データの長期保管を目的とした半導体メモリの配線を想定して、長期保管中に懸念される耐湿性劣化に対するバリア膜としてのグラフェンの可能性を調べた。本研究では原理的な検証を目的として、1075℃の高温でエピタキシャルCu上に堆積した高品質な単層グラフェン(SLG)を用いて、高温高湿保管試験を行い。Cu表面の酸化を光学顕微鏡、X線光電子分光(XPS)、エリプソメトリを用いて調べた。また第一原理シミュレーションによりグラフェンの酸素に対するバリア性を調べた。その結果、SLG結晶粒で覆われたCu表面の酸化は抑制されるが、粒界などの欠陥から酸化されることや、バリア性がSLGの膜質に依存することがわかった。またSLGを2層積層することで、欠陥からの酸化が防止できた。グラフェンを耐湿バリア膜として応用するためには、欠陥の制御が重要と考えられる。 |
(英) |
(Not available yet) |
キーワード |
(和) |
グラフェン / 銅配線 / 耐湿性 / バリア膜 / 高温高湿保管 / 配線信頼性 / 長期保存メモリ / データ長期保管 |
(英) |
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文献情報 |
信学技報, vol. 117, no. 429, SDM2017-98, pp. 5-9, 2018年2月. |
資料番号 |
SDM2017-98 |
発行日 |
2018-02-01 (SDM) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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