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講演抄録/キーワード
講演名 2018-02-08 11:25
[招待講演]銅配線のためのグラフェンキャップ膜の耐湿バリア性
上野和良ゴマサン プロイブッサラ阿部拓実芝浦工大)・河原憲治九大)・和才容子堀場テクノサービス)・グエン タン クン物質・材料研究機構)・ナバトバ-ガバイン ナタリヤ堀場テクノサービス)・吾郷浩樹九大)・岡田 晋筑波大SDM2017-98 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2017-98
抄録 (和) 原子層薄膜のグラフェンはCu配線のバリア膜として注目されている。本研究では、データの長期保管を目的とした半導体メモリの配線を想定して、長期保管中に懸念される耐湿性劣化に対するバリア膜としてのグラフェンの可能性を調べた。本研究では原理的な検証を目的として、1075℃の高温でエピタキシャルCu上に堆積した高品質な単層グラフェン(SLG)を用いて、高温高湿保管試験を行い。Cu表面の酸化を光学顕微鏡、X線光電子分光(XPS)、エリプソメトリを用いて調べた。また第一原理シミュレーションによりグラフェンの酸素に対するバリア性を調べた。その結果、SLG結晶粒で覆われたCu表面の酸化は抑制されるが、粒界などの欠陥から酸化されることや、バリア性がSLGの膜質に依存することがわかった。またSLGを2層積層することで、欠陥からの酸化が防止できた。グラフェンを耐湿バリア膜として応用するためには、欠陥の制御が重要と考えられる。 
(英) (Not available yet)
キーワード (和) グラフェン / 銅配線 / 耐湿性 / バリア膜 / 高温高湿保管 / 配線信頼性 / 長期保存メモリ / データ長期保管  
(英) / / / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 117, no. 429, SDM2017-98, pp. 5-9, 2018年2月.
資料番号 SDM2017-98 
発行日 2018-02-01 (SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード SDM2017-98 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2017-98

研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2018-02-08 - 2018-02-08 
開催地(和) 東京大学/本郷 
開催地(英) Tokyo Univ. 
テーマ(和) 配線・実装技術と関連材料技術 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2018-02-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 銅配線のためのグラフェンキャップ膜の耐湿バリア性 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Moisture Barrier Properties of Capping Graphene for Copper Metallization 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) グラフェン /  
キーワード(2)(和/英) 銅配線 /  
キーワード(3)(和/英) 耐湿性 /  
キーワード(4)(和/英) バリア膜 /  
キーワード(5)(和/英) 高温高湿保管 /  
キーワード(6)(和/英) 配線信頼性 /  
キーワード(7)(和/英) 長期保存メモリ /  
キーワード(8)(和/英) データ長期保管 /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 上野 和良 / Kazuyoshi Ueno / ウエノ カズヨシ
第1著者 所属(和/英) 芝浦工業大学 (略称: 芝浦工大)
Shibaura Institute of Technology (略称: SIT)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) ゴマサン プロイブッサラ / Ploybussara Gomasang /
第2著者 所属(和/英) 芝浦工業大学 (略称: 芝浦工大)
Shibaura Institute of Technology (略称: SIT)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 阿部 拓実 / Takumi Abe / アベ タクミ
第3著者 所属(和/英) 芝浦工業大学 (略称: 芝浦工大)
Shibaura Institute of Technology (略称: SIT)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 河原 憲治 / Kenji Kawahara / カワハラ ケンジ
第4著者 所属(和/英) 九州大学 (略称: 九大)
Kyushu University (略称: Kyushu Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 和才 容子 / Yoko Wasai / ワサイ ヨウコ
第5著者 所属(和/英) 堀場テクノサービス (略称: 堀場テクノサービス)
Horiba TechnoService Co. Ltd. (略称: Horiba Techno)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) グエン タン クン / Nguyen Thanh Cuong /
第6著者 所属(和/英) 物質・材料研究機構 (略称: 物質・材料研究機構)
National Institute for Materials Science (略称: NIMS)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) ナバトバ-ガバイン ナタリヤ / Nataliya Nabatova-Gabain /
第7著者 所属(和/英) 堀場テクノサービス (略称: 堀場テクノサービス)
Horiba Techno Service Co. Ltd. (略称: Horiba Techno)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 吾郷 浩樹 / Hiroki Ago / アゴウ ヒロキ
第8著者 所属(和/英) 九州大学 (略称: 九大)
Kyushu University (略称: Kyushu Univ.)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 岡田 晋 / Susumu Okada / オカダ ススム
第9著者 所属(和/英) 筑波大学 (略称: 筑波大)
University of Tsukuba (略称: Univ. Tsukuba)
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講演者 第1著者 
発表日時 2018-02-08 11:25:00 
発表時間 40分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 SDM2017-98 
巻番号(vol) vol.117 
号番号(no) no.429 
ページ範囲 pp.5-9 
ページ数
発行日 2018-02-01 (SDM) 


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