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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2018-05-16 15:50 マスク最適化のための2次計画法を用いたピクセルベースOPC手法 ○東 梨奈・小平行秀（会津大）  VLD2018-3 |
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| 抄録 | （和） | 半導体製造における回路パターンの限界寸法の縮小のために，光リソグラフィによる半導体加工技術の進歩が求められている．光リソグラフィの解像度を改善させる技術のうち，マスクの整形によってウェハ上に転写されたパタンの忠実性を改善する技術を光近接効果補正(Optical Proximity Correction, OPC)と呼び，光リソグラフィにおいて微細化の重要な役割を担っている．一般にOPCによるマスクの補正方法はルールベースOPCとモデルベースOPCの2つのクラスに分けられ，微細化が進むにつれてモデルベースOPCの研究が広く行われている．また，モデルベースOPCのうちピクセルベースOPCは，数理モデルによりマスクの開口部・遮蔽部をピクセルごとに決めてマスク全体の形状を求める補正方法であり，複雑な形状のマスクが得られることが知られている．本稿では，ターゲットのパタン辺周りの光強度コントラストを2次計画法によって最大化させる，プロセスばらつきを考慮したピクセルベースOPCを提案する． |
| （英） | Due to continuous shrinking of Critical Dimensions (CD) in semiconductor manufacturing, advance of process technology in optical lithography is required. As a main stream among resolution enhance techniques to improve resolution, Optical Proximity Correction (OPC), which raises shape fidelity of formed patterns on wafers by mask correction to designed patterns, is essential to achieve scale down of CD in the optical lithography. In general, methods of mask correction by OPC are divided into two classes: rule-based OPC and model-based OPC. Recently, model-based OPC is broadly studied. Moreover, pixel-base OPC, which is one of model-base OPCs, decides opening or shielding part for each pixel in the mask and forms entire mask shape by mathematical models. This pixel-base OPC is known that it outputs very complicated mask geometry. In this paper, we propose process variation-aware pixel-based OPC which maximizes contrast of intensity around edges of target patterns by using Quadratic Programming. | |
| キーワード | （和） | リソグラフィ / リソグラフィシミュレーション / 光近接効果補正 / 製造容易設計 / / / / |
| （英） | lithography / lithography simulation / optical proximity correction (OPC) / design for manufacturability (DFM) / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 118, no. 29, VLD2018-3, pp. 31-36, 2018年5月. | |
| 資料番号 | VLD2018-3 | |
| 発行日 | 2018-05-09 (VLD) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | VLD2018-3 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | VLD IPSJ-SLDM |
| 開催期間 | 2018-05-16 - 2018-05-16 |
| 開催地（和） | 北九州国際会議場 |
| 開催地（英） | Kitakyushu International Conference Center |
| テーマ（和） | システム設計および一般 |
| テーマ（英） | System Design, etc. |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | VLD |
| 会議コード | 2018-05-VLD-SLDM |
| 本文の言語 | 英語（日本語タイトルあり） |
| タイトル（和） | マスク最適化のための2次計画法を用いたピクセルベースOPC手法 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Pixel-based OPC using Quadratic Programming for Mask Optimization |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | リソグラフィ / lithography |
| キーワード(2)（和/英） | リソグラフィシミュレーション / lithography simulation |
| キーワード(3)（和/英） | 光近接効果補正 / optical proximity correction (OPC) |
| キーワード(4)（和/英） | 製造容易設計 / design for manufacturability (DFM) |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 東 梨奈 / Rina Azuma / アズマ リナ |
| 第1著者 所属（和/英） | 会津大学 (略称： 会津大) The University of Aizu (略称： Univ. of Aizu) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小平 行秀 / Yukihide Kohira / コヒラ ユキヒデ |
| 第2著者 所属（和/英） | 会津大学 (略称： 会津大) The University of Aizu (略称： Univ. of Aizu) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2018-05-16 15:50:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | VLD |
| 資料番号 | VLD2018-3 |
| 巻番号（vol） | vol.118 |
| 号番号（no） | no.29 |
| ページ範囲 | pp.31-36 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2018-05-09 (VLD) |
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