お知らせ 2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 電子情報通信学会における研究会開催について
お知らせ NEW 参加費の返金について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2018-05-16 15:50
マスク最適化のための2次計画法を用いたピクセルベースOPC手法
東 梨奈小平行秀会津大VLD2018-3
抄録 (和) 半導体製造における回路パターンの限界寸法の縮小のために,光リソグラフィによる半導体加工技術の進歩が求められている.光リソグラフィの解像度を改善させる技術のうち,マスクの整形によってウェハ上に転写されたパタンの忠実性を改善する技術を光近接効果補正(Optical Proximity Correction, OPC)と呼び,光リソグラフィにおいて微細化の重要な役割を担っている.一般にOPCによるマスクの補正方法はルールベースOPCとモデルベースOPCの2つのクラスに分けられ,微細化が進むにつれてモデルベースOPCの研究が広く行われている.また,モデルベースOPCのうちピクセルベースOPCは,数理モデルによりマスクの開口部・遮蔽部をピクセルごとに決めてマスク全体の形状を求める補正方法であり,複雑な形状のマスクが得られることが知られている.本稿では,ターゲットのパタン辺周りの光強度コントラストを2次計画法によって最大化させる,プロセスばらつきを考慮したピクセルベースOPCを提案する. 
(英) Due to continuous shrinking of Critical Dimensions (CD) in semiconductor manufacturing, advance of process technology in optical lithography is required. As a main stream among resolution enhance techniques to improve resolution, Optical Proximity Correction (OPC), which raises shape fidelity of formed patterns on wafers by mask correction to designed patterns, is essential to achieve scale down of CD in the optical lithography. In general, methods of mask correction by OPC are divided into two classes: rule-based OPC and model-based OPC. Recently, model-based OPC is broadly studied. Moreover, pixel-base OPC, which is one of model-base OPCs, decides opening or shielding part for each pixel in the mask and forms entire mask shape by mathematical models. This pixel-base OPC is known that it outputs very complicated mask geometry. In this paper, we propose process variation-aware pixel-based OPC which maximizes contrast of intensity around edges of target patterns by using Quadratic Programming.
キーワード (和) リソグラフィ / リソグラフィシミュレーション / 光近接効果補正 / 製造容易設計 / / / /  
(英) lithography / lithography simulation / optical proximity correction (OPC) / design for manufacturability (DFM) / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 118, no. 29, VLD2018-3, pp. 31-36, 2018年5月.
資料番号 VLD2018-3 
発行日 2018-05-09 (VLD) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード VLD2018-3

研究会情報
研究会 VLD IPSJ-SLDM  
開催期間 2018-05-16 - 2018-05-16 
開催地(和) 北九州国際会議場 
開催地(英) Kitakyushu International Conference Center 
テーマ(和) システム設計および一般 
テーマ(英) System Design, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 VLD 
会議コード 2018-05-VLD-SLDM 
本文の言語 英語(日本語タイトルあり) 
タイトル(和) マスク最適化のための2次計画法を用いたピクセルベースOPC手法 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Pixel-based OPC using Quadratic Programming for Mask Optimization 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) リソグラフィ / lithography  
キーワード(2)(和/英) リソグラフィシミュレーション / lithography simulation  
キーワード(3)(和/英) 光近接効果補正 / optical proximity correction (OPC)  
キーワード(4)(和/英) 製造容易設計 / design for manufacturability (DFM)  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 東 梨奈 / Rina Azuma / アズマ リナ
第1著者 所属(和/英) 会津大学 (略称: 会津大)
The University of Aizu (略称: Univ. of Aizu)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 小平 行秀 / Yukihide Kohira / コヒラ ユキヒデ
第2著者 所属(和/英) 会津大学 (略称: 会津大)
The University of Aizu (略称: Univ. of Aizu)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第3著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第4著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第5著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第6著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2018-05-16 15:50:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 VLD 
資料番号 VLD2018-3 
巻番号(vol) vol.118 
号番号(no) no.29 
ページ範囲 pp.31-36 
ページ数
発行日 2018-05-09 (VLD) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会