| 講演抄録/キーワード |
| 講演名 |
2018-07-13 10:40
[招待講演]SiハイブリッドMOS位相シフタを用いた光変調器の展望 ○竹中 充・高木信一(東大) LQE2018-31 |
| 抄録 |
(和) |
我々はシリコン導波路上に化合物半導体薄膜をゲート絶縁膜を介して貼り合わせたハイブリッドMOS構造を提唱し,その光変調器応用の研究を進めている.ゲート電圧印加により化合物半導体MOS界面に電子蓄積させることで,化合物半導体中の電子誘起屈折率変化を有効に活用することができる.この結果,高効率・低損失光位相変調が可能となった.位相変調効率は0.05 Vcmとなり,既存の空乏型シリコン光変調器と比較して10倍以上効率が改善した.一方,位相変調時の光損失は約1/10となることから,光変調振幅も大幅に改善可能される.本講演では,ハイブリッドMOS型光変調器の詳細を報告するとともに, 100 Gbps超の光変調器応用に関する展望を述べる. |
| (英) |
We have proposed a Si hybrid MOS structure where a thin III-V semiconductor membrane is bonded on a Si waveguide with a gate dielectric for optical modulators. Electron accumulation at the III-V MOS interface induced by an application of a gate voltage enables us to use the electron-induced refractive index change in the III-V semiconductor. As a result, we have successfully achieved efficient low-loss optical phase modulation. The phase modulation efficiency is 0.05 Vcm, which is approximately 10 times better than that of a depletion-based Si optical modulator. Moreover, The optical loss accompanying with phase modulation is 10 times smaller than that of a Si optical modulator, improving optical modulation amplitude significantly. We discuss the potential of a Si hybrid MOS optical modulator beyond 100 Gbps application. |
| キーワード |
(和) |
シリコンフォトニクス / 光変調器 / 化合物半導体 / 基板貼り合わせ / / / / |
| (英) |
Si photonics / Optical Modulator / III-V Semiconductor / Wafer Bonding / / / / |
| 文献情報 |
信学技報, vol. 118, no. 129, LQE2018-31, pp. 43-46, 2018年7月. |
| 資料番号 |
LQE2018-31 |
| 発行日 |
2018-07-05 (LQE) |
| ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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LQE2018-31 |