| 講演抄録/キーワード |
| 講演名 |
2018-08-09 13:45
SRAMの安定性自己修復手法における複数回ストレス印加の効果 ○水谷朋子・竹内 潔・更屋拓哉・小林正治・平本俊郎(東大) SDM2018-49 ICD2018-36 |
| 抄録 |
(和) |
ランダムしきい値電圧 (VTH) ばらつきにより劣化したSRAMセルの安定性を向上させる「安定性自己修復技術」において,ストレスを複数回に分けて印加する手法を提案する.65nm技術で作製したFD SOTB 6T-SRAM デバイスマトリックスアレイ (DMA) TEGを用いて,従来のストレスを1回印加する手法と比較し,SRAMデータ保持電圧 (DRV) を,より効果的に低下できること確認した. bulk FETsはSOTB FETsよりVTHばらつきが大きいため,セルの安定性を修復するには,SOTB SRAMセルより大きなVTHシフトが必要になる.本研究では,bulk SRAMセルでも本手法の効果を実証した. |
| (英) |
A new version applying multiple stress of the post fabrication SRAM self-improvement technique, which improves SRAM cell stability degraded due to random threshold voltage (VTH) variability, is proposed. It is demonstrated that, using a device matrix array (DMA) TEG with FD SOTB 6T SRAM cells fabricated by the 65 nm technology, the lowering of data retention voltage (DRV) is more effectively achieved than using the previously proposed single stress technique. Contrary to SOTB FETs with small variability, bulk FETs have larger variability and a larger VTH shift is required to improve the cell stability in bulk SRAM than in STOB SRAM. In this study, we also demonstrated the effectiveness of our method with the bulk SRAM. |
| キーワード |
(和) |
SRAM / ばらつき / セル安定性 / / / / / |
| (英) |
SRAM / variability / cell stability / / / / / |
| 文献情報 |
信学技報, vol. 118, no. 172, SDM2018-49, pp. 121-126, 2018年8月. |
| 資料番号 |
SDM2018-49 |
| 発行日 |
2018-07-31 (SDM, ICD) |
| ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
| PDFダウンロード |
SDM2018-49 ICD2018-36 |
| 研究会情報 |
| 研究会 |
SDM ICD ITE-IST |
| 開催期間 |
2018-08-07 - 2018-08-09 |
| 開催地(和) |
北海道大学大学院情報科学研究科 M棟M151 |
| 開催地(英) |
Hokkaido Univ., Graduate School of IST M Bldg., M151 |
| テーマ(和) |
アナログ、アナデジ混載、RF及びセンサインタフェース回路、低電圧・低消費電力技術、新デバイス・回路とその応用 |
| テーマ(英) |
Analog, Mixed Analog and Digital, RF, and Sensor Interface, Low Voltage/Low Power Techniques, Novel Devices/Circuits, and the Applications |
| 講演論文情報の詳細 |
| 申込み研究会 |
SDM |
| 会議コード |
2018-08-SDM-ICD-IST |
| 本文の言語 |
日本語 |
| タイトル(和) |
SRAMの安定性自己修復手法における複数回ストレス印加の効果 |
| サブタイトル(和) |
|
| タイトル(英) |
Effect of multiple stress application in post-fabrication cell stability self-improvement in SRAM cell array |
| サブタイトル(英) |
|
| キーワード(1)(和/英) |
SRAM / SRAM |
| キーワード(2)(和/英) |
ばらつき / variability |
| キーワード(3)(和/英) |
セル安定性 / cell stability |
| キーワード(4)(和/英) |
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| キーワード(5)(和/英) |
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| キーワード(6)(和/英) |
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| キーワード(7)(和/英) |
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| キーワード(8)(和/英) |
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| 第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
水谷 朋子 / Tomoko Mizutani / ミズタニ トモコ |
| 第1著者 所属(和/英) |
東京大学 (略称: 東大)
The University of Tokyo (略称: Univ. of Tokyo) |
| 第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
竹内 潔 / Kiyoshi Takeuchi / タケウチ キヨシ |
| 第2著者 所属(和/英) |
東京大学 (略称: 東大)
The University of Tokyo (略称: Univ. of Tokyo) |
| 第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
更屋 拓哉 / Takuya Saraya / サラヤ タクヤ |
| 第3著者 所属(和/英) |
東京大学 (略称: 東大)
The University of Tokyo (略称: Univ. of Tokyo) |
| 第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
小林 正治 / Masaharu Kobayashi / コバヤシ マサハル |
| 第4著者 所属(和/英) |
東京大学 (略称: 東大)
The University of Tokyo (略称: Univ. of Tokyo) |
| 第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
平本 俊郎 / Toshiro Hiramoto / ヒラモト トシロウ |
| 第5著者 所属(和/英) |
東京大学 (略称: 東大)
The University of Tokyo (略称: Univ. of Tokyo) |
| 第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 講演者 |
第1著者 |
| 発表日時 |
2018-08-09 13:45:00 |
| 発表時間 |
25分 |
| 申込先研究会 |
SDM |
| 資料番号 |
SDM2018-49, ICD2018-36 |
| 巻番号(vol) |
vol.118 |
| 号番号(no) |
no.172(SDM), no.173(ICD) |
| ページ範囲 |
pp.121-126 |
| ページ数 |
6 |
| 発行日 |
2018-07-31 (SDM, ICD) |
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