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講演抄録/キーワード
講演名 2018-11-08 15:40
[招待講演]高精細CMOSイオンイメージセンサと生命科学への展開
澤田和明李 宥奈木村安行岩田達哉髙橋一浩服部敏明豊橋技科大SDM2018-69 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2018-69
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文献情報 信学技報, vol. 118, no. 291, SDM2018-69, pp. 27-28, 2018年11月.
資料番号 SDM2018-69 
発行日 2018-11-01 (SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
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研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2018-11-08 - 2018-11-09 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般 
テーマ(英) Process, Device, Circuit simulation, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2018-11-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 高精細CMOSイオンイメージセンサと生命科学への展開 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) High Resolution CMOS Ion Image Sensors and Its Application for Biomedical Fields 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 澤田 和明 / Kazuaki Sawada / サワダ カズアキ
第1著者 所属(和/英) 豊橋技術科学大学 (略称: 豊橋技科大)
Toyohashi University of Technology (略称: Toyohashi Tech.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 李 宥奈 / YouNa Lee / リ ユナ
第2著者 所属(和/英) 豊橋技術科学大学 (略称: 豊橋技科大)
Toyohashi University of Technology (略称: Toyohashi Tech.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 木村 安行 / Yasuyuki Kimura / キムラ ヤスユキ
第3著者 所属(和/英) 豊橋技術科学大学 (略称: 豊橋技科大)
Toyohashi University of Technology (略称: Toyohashi Tech.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 岩田 達哉 / Tatsuya Iwata / イワタ タツヤ
第4著者 所属(和/英) 豊橋技術科学大学 (略称: 豊橋技科大)
Toyohashi University of Technology (略称: Toyohashi Tech.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 髙橋 一浩 / Kazuhiro Takahashi / タカハシ カズヒロ
第5著者 所属(和/英) 豊橋技術科学大学 (略称: 豊橋技科大)
Toyohashi University of Technology (略称: Toyohashi Tech.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 服部 敏明 / Toshiaki Hattori / ハットリ トシアキ
第6著者 所属(和/英) 豊橋技術科学大学 (略称: 豊橋技科大)
Toyohashi University of Technology (略称: Toyohashi Tech.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2018-11-08 15:40:00 
発表時間 60分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 SDM2018-69 
巻番号(vol) vol.118 
号番号(no) no.291 
ページ範囲 pp.27-28 
ページ数
発行日 2018-11-01 (SDM) 


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