研究会情報 |
研究会 |
VLD DC CPSY RECONF CPM ICD IE IPSJ-SLDM |
開催期間 |
2018-12-05 - 2018-12-07 |
開催地(和) |
サテライトキャンパスひろしま |
開催地(英) |
Satellite Campus Hiroshima |
テーマ(和) |
デザインガイア2018 -VLSI設計の新しい大地- |
テーマ(英) |
Design Gaia 2018 -New Field of VLSI Design- |
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
VLD |
会議コード |
2018-12-VLD-DC-CPSY-RECONF-CPM-ICD-IE-SLDM-EMB-ARC |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
遅延を抑えたスタック構造によるSOIプロセス向け耐ソフトエラーFFの提案および実測評価 |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
A Radiation-hard Low-delay Flip-Flop with Stacking Structure for SOI Process |
サブタイトル(英) |
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キーワード(1)(和/英) |
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キーワード(8)(和/英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
榎原 光則 / Mitsunori Ebara / エバラ ミツノリ |
第1著者 所属(和/英) |
京都工芸繊維大学 (略称: 京都工繊大)
Kyoto Institute of Technology (略称: Kyoto Inst. of Tech.) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
山田 晃大 / Kodai Yamada / ヤマダ コウダイ |
第2著者 所属(和/英) |
京都工芸繊維大学 (略称: 京都工繊大)
Kyoto Institute of Technology (略称: Kyoto Inst. of Tech.) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
古田 潤 / Jun Furuta / フルタ ジュン |
第3著者 所属(和/英) |
京都工芸繊維大学 (略称: 京都工繊大)
Kyoto Institute of Technology (略称: Kyoto Inst. of Tech.) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
小林 和淑 / Kazutoshi Kobayashi / コバヤシ カズトシ |
第4著者 所属(和/英) |
京都工芸繊維大学 (略称: 京都工繊大)
Kyoto Institute of Technology (略称: Kyoto Inst. of Tech.) |
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第5著者 所属(和/英) |
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第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第8著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第21著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第22著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第23著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第24著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第25著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第26著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第27著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第28著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第29著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第30著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第31著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第32著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第33著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第34著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第35著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第36著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2018-12-07 13:45:00 |
発表時間 |
25分 |
申込先研究会 |
VLD |
資料番号 |
VLD2018-69, DC2018-55 |
巻番号(vol) |
vol.118 |
号番号(no) |
no.334(VLD), no.335(DC) |
ページ範囲 |
pp.203-208 |
ページ数 |
6 |
発行日 |
2018-11-28 (VLD, DC) |