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講演抄録/キーワード
講演名
2018-12-07 13:45
遅延を抑えたスタック構造によるSOIプロセス向け耐ソフトエラーFFの提案および実測評価
○
榎原光則
・
山田晃大
・
古田 潤
・
小林和淑
(
京都工繊大
)
VLD2018-69 DC2018-55
抄録
(和)
(まだ登録されていません)
(英)
(Not available yet)
キーワード
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(英)
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文献情報
信学技報, vol. 118, no. 334, VLD2018-69, pp. 203-208, 2018年12月.
資料番号
VLD2018-69
発行日
2018-11-28 (VLD, DC)
ISSN
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
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VLD2018-69 DC2018-55
研究会情報
研究会
VLD DC CPSY RECONF CPM ICD IE IPSJ-SLDM
開催期間
2018-12-05 - 2018-12-07
開催地(和)
サテライトキャンパスひろしま
開催地(英)
Satellite Campus Hiroshima
テーマ(和)
デザインガイア2018 -VLSI設計の新しい大地-
テーマ(英)
Design Gaia 2018 -New Field of VLSI Design-
講演論文情報の詳細
申込み研究会
VLD
会議コード
2018-12-VLD-DC-CPSY-RECONF-CPM-ICD-IE-SLDM-EMB-ARC
本文の言語
日本語
タイトル(和)
遅延を抑えたスタック構造によるSOIプロセス向け耐ソフトエラーFFの提案および実測評価
サブタイトル(和)
タイトル(英)
A Radiation-hard Low-delay Flip-Flop with Stacking Structure for SOI Process
サブタイトル(英)
キーワード(1)(和/英)
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キーワード(2)(和/英)
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キーワード(3)(和/英)
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キーワード(4)(和/英)
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キーワード(5)(和/英)
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キーワード(6)(和/英)
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キーワード(7)(和/英)
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キーワード(8)(和/英)
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
榎原 光則
/
Mitsunori Ebara
/
エバラ ミツノリ
第1著者 所属(和/英)
京都工芸繊維大学
(略称:
京都工繊大
)
Kyoto Institute of Technology
(略称:
Kyoto Inst. of Tech.
)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
山田 晃大
/
Kodai Yamada
/
ヤマダ コウダイ
第2著者 所属(和/英)
京都工芸繊維大学
(略称:
京都工繊大
)
Kyoto Institute of Technology
(略称:
Kyoto Inst. of Tech.
)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
古田 潤
/
Jun Furuta
/
フルタ ジュン
第3著者 所属(和/英)
京都工芸繊維大学
(略称:
京都工繊大
)
Kyoto Institute of Technology
(略称:
Kyoto Inst. of Tech.
)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
小林 和淑
/
Kazutoshi Kobayashi
/
コバヤシ カズトシ
第4著者 所属(和/英)
京都工芸繊維大学
(略称:
京都工繊大
)
Kyoto Institute of Technology
(略称:
Kyoto Inst. of Tech.
)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第5著者 所属(和/英)
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第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第6著者 所属(和/英)
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第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第7著者 所属(和/英)
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第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第8著者 所属(和/英)
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第9著者 所属(和/英)
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第10著者 所属(和/英)
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第11著者 所属(和/英)
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第12著者 所属(和/英)
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第13著者 所属(和/英)
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第14著者 所属(和/英)
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第15著者 所属(和/英)
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第16著者 所属(和/英)
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第17著者 所属(和/英)
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第18著者 所属(和/英)
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第19著者 所属(和/英)
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第20著者 所属(和/英)
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(略称: )
講演者
第1著者
発表日時
2018-12-07 13:45:00
発表時間
25分
申込先研究会
VLD
資料番号
VLD2018-69, DC2018-55
巻番号(vol)
vol.118
号番号(no)
no.334(VLD), no.335(DC)
ページ範囲
pp.203-208
ページ数
6
発行日
2018-11-28 (VLD, DC)
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