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講演抄録/キーワード
講演名 2018-12-25 13:30
酸素雰囲気中で作製したAlOx/GeOx/a-Geスタック構造に対する原子状水素アニールの効果
大貫智史部家 彰松尾直人兵庫県立大EID2018-6 SDM2018-79 エレソ技報アーカイブへのリンク:EID2018-6 SDM2018-79
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文献情報 信学技報, vol. 118, no. 380, SDM2018-79, pp. 21-24, 2018年12月.
資料番号 SDM2018-79 
発行日 2018-12-18 (EID, SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
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研究会情報
研究会 EID SDM ITE-IDY  
開催期間 2018-12-25 - 2018-12-25 
開催地(和) 龍谷大学 響都ホール 校友会館 
開催地(英)  
テーマ(和) シリコン関連材料の作製と評価およびディスプレイ技術 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2018-12-EID-SDM-IDY 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 酸素雰囲気中で作製したAlOx/GeOx/a-Geスタック構造に対する原子状水素アニールの効果 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Effect of atomic hydrogen annealing on AlOx/GeOx/a-Ge stack structure fabricated in O2 ambient 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 大貫 智史 / Tomofumi Onuki / オオヌキ トモフミ
第1著者 所属(和/英) 兵庫県立大学 (略称: 兵庫県立大)
University of Hyogo (略称: Univ. Hyogo)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 部家 彰 / Akira Heya / ヘヤ アキラ
第2著者 所属(和/英) 兵庫県立大学 (略称: 兵庫県立大)
University of Hyogo (略称: Univ. Hyogo)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 松尾 直人 / Naoto Matsuo / マツオ ナオト
第3著者 所属(和/英) 兵庫県立大学 (略称: 兵庫県立大)
University of Hyogo (略称: Univ. Hyogo)
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講演者 第1著者 
発表日時 2018-12-25 13:30:00 
発表時間 15分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 EID2018-6, SDM2018-79 
巻番号(vol) vol.118 
号番号(no) no.379(EID), no.380(SDM) 
ページ範囲 pp.21-24 
ページ数
発行日 2018-12-18 (EID, SDM) 


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