講演抄録/キーワード |
講演名 |
2018-12-25 13:45
Arクラスター照射によるDNA/Si-MOSFETに対する影響 ○中野 響・松尾直人・部家 彰・山名一成・高田忠雄・盛谷浩右・乾 徳夫・佐藤 佑(兵庫県立大)・佐藤 旦・横山 新(広島大) EID2018-7 SDM2018-80 エレソ技報アーカイブへのリンク:EID2018-7 SDM2018-80 |
抄録 |
(和) |
DNAにArクラスターを照射した。照射前後で、電流値に大きな変化が見られた。ArクラスターによりDNAに変化が起きたと考えられる。Arクラスターと同時にSIMS(Secondary Ion Mass Spectrometry)を行い、DNAの塩基に関するピークが見られた。DNAの形状に大きな変化があったのではないかと考えられる。 |
(英) |
DNA was irradiated with Ar-cluster. A large change was observed in the current value before and after the irradiation. It seems that DNA has changed due to Ar-cluster. SIMS (Secondary Ion Mass Spectrometry) was performed simultaneously with the Ar-cluster, and a peak related to DNA base was observed. It seems that there was a big change in the shape of DNA. |
キーワード |
(和) |
DNA/Si-MOSFET / Secondary Ion Mass Spectrometry / / / / / / |
(英) |
DNA/Si-MOSFET / Secondary Ion Mass Spectrometry / / / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 118, no. 380, SDM2018-80, pp. 25-28, 2018年12月. |
資料番号 |
SDM2018-80 |
発行日 |
2018-12-18 (EID, SDM) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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