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講演抄録/キーワード
講演名
2019-01-17 15:50
GaN-on-GaN構造の採用による転位密度低減に伴う高電界ストレスに対する電流コラプス特性の改善効果
○
今井章文
・
吉嗣晃治
・
南條拓真
・
綿引達郎
・
山向幹雄
(
三菱電機
)
ED2018-79 MW2018-146
エレソ技報アーカイブへのリンク:
ED2018-79
MW2018-146
抄録
(和)
(まだ登録されていません)
(英)
(Not available yet)
キーワード
(和)
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(英)
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文献情報
信学技報, vol. 118, no. 402, ED2018-79, pp. 59-62, 2019年1月.
資料番号
ED2018-79
発行日
2019-01-10 (ED, MW)
ISSN
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
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ED2018-79 MW2018-146
エレソ技報アーカイブへのリンク:
ED2018-79
MW2018-146
研究会情報
研究会
MW ED
開催期間
2019-01-17 - 2019-01-18
開催地(和)
日立中研
開催地(英)
Hitachi, Central Research Lab.
テーマ(和)
化合物半導体ICおよび超高速・超高周波デバイス/マイクロ波/一般
テーマ(英)
Compound semiconductor, High speed and High frequency devices/Microwave technologies
講演論文情報の詳細
申込み研究会
ED
会議コード
2019-01-MW-ED
本文の言語
日本語
タイトル(和)
GaN-on-GaN構造の採用による転位密度低減に伴う高電界ストレスに対する電流コラプス特性の改善効果
サブタイトル(和)
タイトル(英)
Reduction of dislocation density leading improvement of current collapse under high electric-field stress by using GaN-on-GaN structure
サブタイトル(英)
キーワード(1)(和/英)
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キーワード(2)(和/英)
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キーワード(3)(和/英)
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キーワード(4)(和/英)
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キーワード(5)(和/英)
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キーワード(6)(和/英)
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キーワード(7)(和/英)
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キーワード(8)(和/英)
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
今井 章文
/
Akifumi Imai
/
イマイ アキフミ
第1著者 所属(和/英)
三菱電機株式会社
(略称:
三菱電機
)
Mitsubishi Electric Corporation
(略称:
Mitsubishi Electric Co.
)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
吉嗣 晃治
/
Koji Yoshitsugu
/
ヨシツグ コウジ
第2著者 所属(和/英)
三菱電機株式会社
(略称:
三菱電機
)
Mitsubishi Electric Corporation
(略称:
Mitsubishi Electric Co.
)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
南條 拓真
/
Takuma Nanjo
/
ナンジョウ タクマ
第3著者 所属(和/英)
三菱電機株式会社
(略称:
三菱電機
)
Mitsubishi Electric Corporation
(略称:
Mitsubishi Electric Co.
)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
綿引 達郎
/
Tatsuro Watahiki
/
ワタヒキ タツロウ
第4著者 所属(和/英)
三菱電機株式会社
(略称:
三菱電機
)
Mitsubishi Electric Corporation
(略称:
Mitsubishi Electric Co.
)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
山向 幹雄
/
Mikio Yamamuka
/
ヤマムカ ミキオ
第5著者 所属(和/英)
三菱電機株式会社
(略称:
三菱電機
)
Mitsubishi Electric Corporation
(略称:
Mitsubishi Electric Co.
)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第6著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第7著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第8著者 所属(和/英)
(略称: )
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第9著者 所属(和/英)
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第10著者 所属(和/英)
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第11著者 所属(和/英)
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第12著者 所属(和/英)
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第13著者 所属(和/英)
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第14著者 所属(和/英)
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第15著者 所属(和/英)
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第16著者 所属(和/英)
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第17著者 所属(和/英)
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第18著者 所属(和/英)
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第19著者 所属(和/英)
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第20著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
講演者
第1著者
発表日時
2019-01-17 15:50:00
発表時間
25分
申込先研究会
ED
資料番号
ED2018-79, MW2018-146
巻番号(vol)
vol.118
号番号(no)
no.402(ED), no.403(MW)
ページ範囲
pp.59-62
ページ数
4
発行日
2019-01-10 (ED, MW)
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