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講演抄録/キーワード
講演名 2019-01-29 11:00
[招待講演]The Relationship between Polarization Switching and Subthreshold Behavior in HfO2-based Ferroelectric and Anti-ferroelectric FET: An Experimental Study
Chengji JinKyungmin JangTakuya SarayaToshiro HiramotoMasaharu KobayashiUniv. of TokyoSDM2018-84
抄録 (和) We have experimentally studied and revealed the direct relationship between polarization switching and subthreshold characteristics of HfO2-based ferroelectric FET (FeFET) and Anti-FeFET (A-FeFET) by systematically designing and fabricating devices, and monitoring Ig with high resolution. In the circumstances that charge injection prevents polarization switching from occurring in subthreshold region of FeFET, we have obtained two major findings: (1) Sub-60 subthreshold slope (SS) can be realized by adjusting Vg bias sequence, which is attributed to charge injection assisted by polarization switching. (2) Anti-ferroelectric facilitates to align polarization switching in subthreshold region and SS can be improved in A-FeFET, which is directly observed by monitoring Ig. 
(英) We have experimentally studied and revealed the direct relationship between polarization switching and subthreshold characteristics of HfO2-based ferroelectric FET (FeFET) and Anti-FeFET (A-FeFET) by systematically designing and fabricating devices, and monitoring Ig with high resolution. In the circumstances that charge injection prevents polarization switching from occurring in subthreshold region of FeFET, we have obtained two major findings: (1) Sub-60 subthreshold slope (SS) can be realized by adjusting Vg bias sequence, which is attributed to charge injection assisted by polarization switching. (2) Anti-ferroelectric facilitates to align polarization switching in subthreshold region and SS can be improved in A-FeFET, which is directly observed by monitoring Ig.
キーワード (和) Steep SS / ferroelectric HfO2 / polarization switching / / / / /  
(英) Steep SS / ferroelectric HfO2 / polarization switching / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 118, no. 429, SDM2018-84, pp. 13-16, 2019年1月.
資料番号 SDM2018-84 
発行日 2019-01-22 (SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード SDM2018-84

研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2019-01-29 - 2019-01-29 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) 先端CMOSデバイス・ プロセス技術(IEDM特集) 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2019-01-SDM 
本文の言語 英語 
タイトル(和)  
サブタイトル(和)  
タイトル(英) The Relationship between Polarization Switching and Subthreshold Behavior in HfO2-based Ferroelectric and Anti-ferroelectric FET: An Experimental Study 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) Steep SS / Steep SS  
キーワード(2)(和/英) ferroelectric HfO2 / ferroelectric HfO2  
キーワード(3)(和/英) polarization switching / polarization switching  
キーワード(4)(和/英) /  
キーワード(5)(和/英) /  
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キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) Chengji Jin / Chengji Jin /
第1著者 所属(和/英) 東京大学 (略称: 東大)
University of Tokyo (略称: Univ. of Tokyo)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) Kyungmin Jang / Kyungmin Jang /
第2著者 所属(和/英) 東京大学 (略称: 東大)
University of Tokyo (略称: Univ. of Tokyo)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) Takuya Saraya / Takuya Saraya /
第3著者 所属(和/英) 東京大学 (略称: 東大)
University of Tokyo (略称: Univ. of Tokyo)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) Toshiro Hiramoto / Toshiro Hiramoto /
第4著者 所属(和/英) 東京大学 (略称: 東大)
University of Tokyo (略称: Univ. of Tokyo)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) Masaharu Kobayashi / Masaharu Kobayashi /
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University of Tokyo (略称: Univ. of Tokyo)
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講演者 第1著者 
発表日時 2019-01-29 11:00:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 SDM2018-84 
巻番号(vol) vol.118 
号番号(no) no.429 
ページ範囲 pp.13-16 
ページ数
発行日 2019-01-22 (SDM) 


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