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講演抄録/キーワード
講演名
2019-02-07 15:30
[招待講演]微細CMOS向け新コンタクト材料:クラスター気相合成法で形成したSiリッチWシリサイド膜
○
岡田直也
・
内田紀行
・
小川真一
・
金山敏彦
(
産総研
)
SDM2018-96
エレソ技報アーカイブへのリンク:
SDM2018-96
抄録
(和)
(まだ登録されていません)
(英)
(Not available yet)
キーワード
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(英)
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文献情報
信学技報, vol. 118, no. 438, SDM2018-96, pp. 23-26, 2019年2月.
資料番号
SDM2018-96
発行日
2019-01-31 (SDM)
ISSN
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード
SDM2018-96
エレソ技報アーカイブへのリンク:
SDM2018-96
研究会情報
研究会
SDM
開催期間
2019-02-07 - 2019-02-07
開催地(和)
東京大学/本郷 工学部4号館 42講義室
開催地(英)
テーマ(和)
配線・実装技術と関連材料技術
テーマ(英)
Backend / Assembly and Related materials technology
講演論文情報の詳細
申込み研究会
SDM
会議コード
2019-02-SDM
本文の言語
日本語
タイトル(和)
微細CMOS向け新コンタクト材料:クラスター気相合成法で形成したSiリッチWシリサイド膜
サブタイトル(和)
タイトル(英)
New contact material for advanced CMOS: cluster-preforming-deposited amorphous Si-rich W silicide film
サブタイトル(英)
キーワード(1)(和/英)
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キーワード(2)(和/英)
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キーワード(3)(和/英)
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キーワード(4)(和/英)
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キーワード(5)(和/英)
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キーワード(6)(和/英)
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キーワード(7)(和/英)
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キーワード(8)(和/英)
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
岡田 直也
/
Naoya Okada
/
オカダ ナオヤ
第1著者 所属(和/英)
産業技術総合研究所
(略称:
産総研
)
National Institute of Advanced Industrial Science & Technology
(略称:
AIST
)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
内田 紀行
/
Noriyuki Uchida
/
ウチダ ノリユキ
第2著者 所属(和/英)
産業技術総合研究所
(略称:
産総研
)
National Institute of Advanced Industrial Science & Technology
(略称:
AIST
)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
小川 真一
/
Shinichi Ogawa
/
オガワ シンイチ
第3著者 所属(和/英)
産業技術総合研究所
(略称:
産総研
)
National Institute of Advanced Industrial Science & Technology
(略称:
AIST
)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
金山 敏彦
/
Toshihiko Kanayama
/
カナヤマ トシヒコ
第4著者 所属(和/英)
産業技術総合研究所
(略称:
産総研
)
National Institute of Advanced Industrial Science & Technology
(略称:
AIST
)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第5著者 所属(和/英)
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第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第6著者 所属(和/英)
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第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第7著者 所属(和/英)
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第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第8著者 所属(和/英)
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第9著者 所属(和/英)
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第10著者 所属(和/英)
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第11著者 所属(和/英)
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第12著者 所属(和/英)
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第13著者 所属(和/英)
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第14著者 所属(和/英)
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第15著者 所属(和/英)
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第16著者 所属(和/英)
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第18著者 所属(和/英)
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第19著者 所属(和/英)
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第20著者 所属(和/英)
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講演者
第1著者
発表日時
2019-02-07 15:30:00
発表時間
40分
申込先研究会
SDM
資料番号
SDM2018-96
巻番号(vol)
vol.118
号番号(no)
no.438
ページ範囲
pp.23-26
ページ数
4
発行日
2019-01-31 (SDM)
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