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講演抄録/キーワード
講演名 2019-02-28 10:25
薄膜BOX-SOIと基板バイアス制御を用いた低消費電力スタンダードセルメモリの実チップによる評価
真崎 諒吉田有佑芝浦工大)・天野英晴慶大)・宇佐美公良芝浦工大VLD2018-108 HWS2018-71
抄録 (和) 近年、IoTデバイスが急速に増加している。IoTデバイスの1つであるセンサーノードや小型医療デバイス等、必ずしも高い演算能力を必要としないものがある。しかし、それらは電源供給が困難な場所で使用されることが多く、限られたエネルギー資源の中で動作させ続けるためには、低消費エネルギー化が極めて重要になる。そこで本研究では、スタンダードセルを組み合わせて、構成されるデジタルオンチップメモリであるスタンダードセルメモリ(Standard Cell based Memory:SCM)に、複数の基板バイアスを印加するマルチボディバイアス制御を適用し、実チップを用いてSCMの消費エネルギーの評価を行った。プロセスは、基板バイアス効果が大きいFD-SOIデバイスの一つである薄膜BOX-SOI(Silicon on Thin-BOX:SOTB)を用いる。 
(英) In recent years, IoT devices are rapidly increasing. One of the IoT devices is a sensor node and a small medical device etc. Since they are often used in places where power supply is difficult, low energy consumption is extremely important. Therefore, in this study, multi body-bias control is applied to SCM (Standard Cell based Memory), which is a digital on-chip memory configured by combining standard cells, and the energy consumption energy of SCM was evaluated using real chips. As the process technology, thin-film BOX-SOI (Silicon on Thin-BOX: SOTB) which is one of FD-SOI devices having a large body bias effect is used.
キーワード (和) ボディバイアス / Standard Cell based Memory / 超低電圧 / 薄膜BOX-SOI / / / /  
(英) Body Bias / Standard Cell based Memory / Ultra low voltage / SOTB / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 118, no. 457, VLD2018-108, pp. 91-96, 2019年2月.
資料番号 VLD2018-108 
発行日 2019-02-20 (VLD, HWS) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード VLD2018-108 HWS2018-71

研究会情報
研究会 HWS VLD  
開催期間 2019-02-27 - 2019-03-02 
開催地(和) 沖縄県青年会館 
開催地(英) Okinawa Ken Seinen Kaikan 
テーマ(和) システムオンシリコンを支える設計技術, ハードウェアセキュリティ, 一般 
テーマ(英) Design Technology for System-on-Silicon, Hardware Security, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 VLD 
会議コード 2019-02-HWS-VLD 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 薄膜BOX-SOIと基板バイアス制御を用いた低消費電力スタンダードセルメモリの実チップによる評価 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Evaluation of low power consumption Standard Cell Memory (SCM) using body-bias control in Silicon-on-Thin-BOX MOSFET:SOTB 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) ボディバイアス / Body Bias  
キーワード(2)(和/英) Standard Cell based Memory / Standard Cell based Memory  
キーワード(3)(和/英) 超低電圧 / Ultra low voltage  
キーワード(4)(和/英) 薄膜BOX-SOI / SOTB  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 真崎 諒 / Ryo Magasaki / マガサキ リョウ
第1著者 所属(和/英) 芝浦工業大学 (略称: 芝浦工大)
Shibaura Institute of Technology (略称: Shibaura Inst. of Tech.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 吉田 有佑 / Yusuke Yoshida / ヨシダ ユウスケ
第2著者 所属(和/英) 芝浦工業大学 (略称: 芝浦工大)
Shibaura Institute of Technology (略称: Shibaura Inst. of Tech.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 天野 英晴 / Hideharu Amano / アマノ ヒデハル
第3著者 所属(和/英) 慶応義塾大学 (略称: 慶大)
Keio University (略称: Keio Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 宇佐美 公良 / Kimiyoshi Usami / ウサミ キミヨシ
第4著者 所属(和/英) 芝浦工業大学 (略称: 芝浦工大)
Shibaura Institute of Technology (略称: Shibaura Inst. of Tech.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2019-02-28 10:25:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 VLD 
資料番号 VLD2018-108, HWS2018-71 
巻番号(vol) vol.118 
号番号(no) no.457(VLD), no.458(HWS) 
ページ範囲 pp.91-96 
ページ数
発行日 2019-02-20 (VLD, HWS) 


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