講演抄録/キーワード |
講演名 |
2019-04-18 13:50
室温原子層堆積法のガスバリア応用 ○廣瀬文彦・吉田一樹・三浦正範・鹿又健作(山形大) ED2019-3 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2019-3 |
抄録 |
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キーワード |
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文献情報 |
信学技報, vol. 119, no. 9, ED2019-3, pp. 9-11, 2019年4月. |
資料番号 |
ED2019-3 |
発行日 |
2019-04-11 (ED) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
PDFダウンロード |
ED2019-3 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2019-3 |
研究会情報 |
研究会 |
ED |
開催期間 |
2019-04-18 - 2019-04-18 |
開催地(和) |
東北大・通研 |
開催地(英) |
RIEC, Tohoku Univ. |
テーマ(和) |
有機デバイス、酸化物デバイス、一般 |
テーマ(英) |
Organic devices, oxide devices, general |
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
ED |
会議コード |
2019-04-ED |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
室温原子層堆積法のガスバリア応用 |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
RT atomic layer deposition and its application to gas barrier coating |
サブタイトル(英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
廣瀬 文彦 / Fumihiko Hirose / ヒロセ フミヒコ |
第1著者 所属(和/英) |
山形大学 (略称: 山形大)
Yamagata Univ (略称: Yamagata Univ) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
吉田 一樹 / Kazuki Yoshida / ヨシダ カズキ |
第2著者 所属(和/英) |
山形大学 (略称: 山形大)
Yamagata Univ (略称: Yamagata Univ) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
三浦 正範 / Masanori Miura / ミウラ マサノリ |
第3著者 所属(和/英) |
山形大学 (略称: 山形大)
Yamagata Univ (略称: Yamagata Univ) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
鹿又 健作 / Kensaku Kanomata / カノマタ ケンサク |
第4著者 所属(和/英) |
山形大学 (略称: 山形大)
Yamagata Univ (略称: Yamagata Univ) |
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2019-04-18 13:50:00 |
発表時間 |
25分 |
申込先研究会 |
ED |
資料番号 |
ED2019-3 |
巻番号(vol) |
vol.119 |
号番号(no) |
no.9 |
ページ範囲 |
pp.9-11 |
ページ数 |
3 |
発行日 |
2019-04-11 (ED) |
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