お知らせ 2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 電子情報通信学会における研究会開催について
お知らせ NEW 参加費の返金について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2019-06-14 16:05
潤滑油を使用したAuメッキリングとAgPdブラシ摺動システムにおける接触電圧降下変動分の検討Ⅱ
澤 孝一郎渡辺克忠上野貴博日本工大)・増渕博康日本電産サーボEMD2019-9 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2019-9
抄録 (和) スリップリング−ブラシ摺動システムの性能を評価する主要パラメータの一つは接触電圧降下である。一般に、接触電圧降下は、一回転の間で変動する。したがって、接触電圧降下は、その平均値だけでなく、変動分の大きさも重要な指標である。そして、接触電圧降下の経時変化は、摺動状態の変化についての情報を含んでいると考えられる。潤滑油を使用したスリップリングシステムでは、潤滑油の劣化がシステムの寿命を決める大きな要素である。したがって、接触電圧降下の挙動と潤滑油の劣化の関係が分かれば有用である。
前回の報告では、ノイズのように見えるパルス状の変動分が、回転に同期して発生していることを明らかにした。今回、接触電圧の変動分を、標準偏差、その最大値の経時変化を検討し、特にパルス状の変動分がマイナスリングで発生し易いことが分かった。また、回転に同期した外部トリガーを用いて波形を記録した。それにより、測定の時期などを変えても、パルスの発生場所を特定できることになる。この波形分析より、パルス状の変動分は、リング表面の特定部分で発生していることを実証した。また、パルス状の変動分は、回転速度を下げると小さくなり、消滅する。これらのことより、電気伝導は、トンネル効果が主役となっていることが推測される。 
(英) The authors have been investigating the deterioration process of Au-plated slip-ring and Ag-Pd brush system with lubricant to realize stable and long lifetime.
In this paper, the contact voltage waveforms were regularly recorded during the test, and analyzed to obtain the time change of peak voltage and standard deviation during one rotation. Based on these results, it is discussed what happens at the interface between ring and brush with the lubricant. And the following results are made clear. The fluctuation of voltage waveforms, especially peaks of pulse-like fluctuation more easily occurs for minus rings than for plus rings. Further, peak values of the pulse-like fluctuation rapidly decreases and disappear at lower rotation speed as mentioned in the previous works. In addition, each peals of the pulse-like fluctuation is identified at each position of the ring periphery.
From these results, it can be assumed that lubricant film exists between brush and ring surface and electric conduction is realized by tunnel effect. In other words, it can be made clear that the fluctuation would be caused by the lubricant layer, not only by the ring surface. Finally, an electric conduction model is proposed and the above results can be explained by this model.
キーワード (和) スリップリング / 金メッキ / Ag-Pdブラシ / 潤滑油 / トンネル効果 / 接触電圧降下変動分 / /  
(英) slip ring / Au plating / lubricant / contact voltage / fluctuation / tunnel effect / /  
文献情報 信学技報, vol. 119, no. 84, EMD2019-9, pp. 13-18, 2019年6月.
資料番号 EMD2019-9 
発行日 2019-06-07 (EMD) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード EMD2019-9 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2019-9

研究会情報
研究会 EMD  
開催期間 2019-06-14 - 2019-06-14 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) 一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 EMD 
会議コード 2019-06-EMD 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 潤滑油を使用したAuメッキリングとAgPdブラシ摺動システムにおける接触電圧降下変動分の検討Ⅱ 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Fluctuation Components of Contact Voltage at AgPd Brush and Au-plated Slip-ring System withLlubricant II 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) スリップリング / slip ring  
キーワード(2)(和/英) 金メッキ / Au plating  
キーワード(3)(和/英) Ag-Pdブラシ / lubricant  
キーワード(4)(和/英) 潤滑油 / contact voltage  
キーワード(5)(和/英) トンネル効果 / fluctuation  
キーワード(6)(和/英) 接触電圧降下変動分 / tunnel effect  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 澤 孝一郎 / Koichiro Sawa / サワ コウイチロウ
第1著者 所属(和/英) 日本工業大学 (略称: 日本工大)
Nippon Institute of Technology (略称: NIT)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 渡辺 克忠 / Yoshitada Watanabe / ワタナベ ヨシタダ
第2著者 所属(和/英) 日本工業大学 (略称: 日本工大)
Nippon Institute of Technology (略称: NIT)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 上野 貴博 / Takahiro Ueno / ウエノ タカヒロ
第3著者 所属(和/英) 日本工業大学 (略称: 日本工大)
Nippon Institute of Technology (略称: NIT)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 増渕 博康 / Hiroyasu Masubuchi /
第4著者 所属(和/英) 日本電産サーボ (略称: 日本電産サーボ)
NIDEC SERVO (略称: NIDEC SERVO)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第5著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第6著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2019-06-14 16:05:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 EMD 
資料番号 EMD2019-9 
巻番号(vol) vol.119 
号番号(no) no.84 
ページ範囲 pp.13-18 
ページ数
発行日 2019-06-07 (EMD) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会