講演抄録/キーワード |
講演名 |
2019-11-11 15:55
[特別招待講演]ローエンドSiプロセスで高歩留り・温度無依存動作を実現する加工誤差自動補正機能を備えた超低クロストークWDM分波器 ○秋山知之(光電子融合基盤技研)・小田祥一朗(富士通)・鄭 錫煥・中舎安宏・早川明憲・田中 有(光電子融合基盤技研)・星田剛司(富士通) OCS2019-57 OPE2019-95 LQE2019-73 エレソ技報アーカイブへのリンク:OPE2019-95 LQE2019-73 |
抄録 |
(和) |
(事前公開アブストラクト) Si光集積回路は光導波路寸法ばらつきに由来する位相誤差が大きく、波長分離回路のクロストークを抑えるのが難しいという問題がある。この問題を解決する新しい分波器を試作・動作実証しECOC 2019にて報告した。本分波器を用いることで集積実装可能なシンプルな制御方法で約-50 dBの低クロストークを実現し、この技術により高歩留り、温度無依存が実現、WDMの集積密度やコストを大幅な改善が期待できることを示したが、本稿においてはその内容のレビューを行うと共に本技術の意義について説明する。 |
(英) |
(Advance abstract in Japanese is available) |
キーワード |
(和) |
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文献情報 |
信学技報, vol. 119, no. 279, OPE2019-95, pp. 27-32, 2019年11月. |
資料番号 |
OPE2019-95 |
発行日 |
2019-11-04 (OCS, OPE, LQE) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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