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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2019-11-21 13:20 ICP-RIEによって作製されたGaNトレンチ側壁のダメージ評価 ○山田真嗣・櫻井秀樹（名大/アルバック）・長田大和・中村敏幸・上村隆一郎（アルバック）・須田 淳・加地 徹（名大）  ED2019-40 CPM2019-59 LQE2019-83 |
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| 抄録 | （和） | GaN系トレンチゲート縦型パワー半導体デバイスを実現するための要素プロセス技術の一つである誘導結合型プラズマ反応性イオンエッチング(ICP-RIE)を用いたドライエッチング技術に関し、形状制御と低ダメージ化を両立させるためのGaNトレンチ形成技術を開発した。その効果をトレンチ側壁に形成したショットキーバリアダイオードで確認した。 |
| （英） | (Not available yet) | |
| キーワード | （和） | GaN / ICP-RIE / エッチング / ダメージ / ショットキーバリアダイオード / / / |
| （英） | / / / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 119, no. 302, ED2019-40, pp. 33-35, 2019年11月. | |
| 資料番号 | ED2019-40 | |
| 発行日 | 2019-11-14 (ED, CPM, LQE) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | ED2019-40 CPM2019-59 LQE2019-83 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM LQE ED |
| 開催期間 | 2019-11-21 - 2019-11-22 |
| 開催地（和） | 静岡大学（浜松） |
| 開催地（英） | Shizuoka Univ. (Hamamatsu) |
| テーマ（和） | 窒化物半導体光・電デバイス、材料、関連技術、及び一般 |
| テーマ（英） | Nitride Semiconductor Devices, Materials, Related Technologies |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | ED |
| 会議コード | 2019-11-CPM-LQE-ED |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | ICP-RIEによって作製されたGaNトレンチ側壁のダメージ評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Characterization of plasma-induced damage of GaN trench sidewall formed by ICP-RIE |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | GaN / |
| キーワード(2)（和/英） | ICP-RIE / |
| キーワード(3)（和/英） | エッチング / |
| キーワード(4)（和/英） | ダメージ / |
| キーワード(5)（和/英） | ショットキーバリアダイオード / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 山田 真嗣 / Shinji Yamada / ヤマダ シンジ |
| 第1著者 所属（和/英） | 名古屋大学/株式会社 アルバック (略称： 名大/アルバック) Nagoya University/ULVAC, Inc. (略称： Nagoya Univ./ULVAC) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 櫻井 秀樹 / Hideki Sakurai / サクライ ヒデキ |
| 第2著者 所属（和/英） | 名古屋大学/株式会社 アルバック (略称： 名大/アルバック) Nagoya University/ULVAC, Inc. (略称： Nagoya Univ./ULVAC) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 長田 大和 / Yamato Osada / オサダ ヤマト |
| 第3著者 所属（和/英） | 株式会社 アルバック (略称： アルバック) ULVAC, Inc. (略称： ULVAC) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 中村 敏幸 / Toshiyuki Nakamura / ナカムラ トシユキ |
| 第4著者 所属（和/英） | 株式会社 アルバック (略称： アルバック) ULVAC, Inc. (略称： ULVAC) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 上村 隆一郎 / Ryuichiro Kamimura / カミムラ リュウイチロウ |
| 第5著者 所属（和/英） | 株式会社 アルバック (略称： アルバック) ULVAC, Inc. (略称： ULVAC) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 須田 淳 / Jun Suda / スダ ジュン |
| 第6著者 所属（和/英） | 名古屋大学 (略称： 名大) Nagoya University (略称： Nagoya Univ.) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 加地 徹 / Tetsu Kachi / カチ テツ |
| 第7著者 所属（和/英） | 名古屋大学 (略称： 名大) Nagoya University (略称： Nagoya Univ.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2019-11-21 13:20:00 |
| 発表時間 | 20分 |
| 申込先研究会 | ED |
| 資料番号 | ED2019-40, CPM2019-59, LQE2019-83 |
| 巻番号（vol） | vol.119 |
| 号番号（no） | no.302(ED), no.303(CPM), no.304(LQE) |
| ページ範囲 | pp.33-35 |
| ページ数 | 3 |
| 発行日 | 2019-11-14 (ED, CPM, LQE) |
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