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講演抄録/キーワード
講演名 2020-01-17 16:45
画素間で均一な特性をもつ多画素TES型ガンマ線マイクロカロリメータ実現に向けたSiO_2/Si_xN_y/SiO_2メンブレンの製作
菊地貴大神代 暁藤井 剛浮辺雅宏産総研)・大野雅史スミス ライアン東大)・生稲新太郎ハイソルSCE2019-75 エレソ技報アーカイブへのリンク:SCE2019-75
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
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文献情報 信学技報, vol. 119, no. 369, SCE2019-75, pp. 183-187, 2020年1月.
資料番号 SCE2019-75 
発行日 2020-01-09 (SCE) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード SCE2019-75 エレソ技報アーカイブへのリンク:SCE2019-75

研究会情報
研究会 SCE  
開催期間 2020-01-16 - 2020-01-17 
開催地(和) 横浜市開港記念会館 
開催地(英)  
テーマ(和) 超伝導エレクトロニクス一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SCE 
会議コード 2020-01-SCE 
本文の言語 英語(日本語タイトルあり) 
タイトル(和) 画素間で均一な特性をもつ多画素TES型ガンマ線マイクロカロリメータ実現に向けたSiO_2/Si_xN_y/SiO_2メンブレンの製作 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Fabrication of SiO_2/Si_xN_y/SiO_2 Membranes for Multipixel Gamma-Ray Transition Edge Sensors with Uniform Characteristics 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 菊地 貴大 / Takahiro Kikuchi / キクチ タカヒロ
第1著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 神代 暁 / Kohjiro Satoshi / コウジロ サトシ
第2著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 藤井 剛 / Go Fujii / フジイ ゴウ
第3著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 浮辺 雅宏 / Masahiro Ukibe / ウキベ マサヒロ
第4著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 大野 雅史 / Masashi Ohno / オオノ マサシ
第5著者 所属(和/英) 東京大学 (略称: 東大)
The University of Tokyo (略称: UTokyo)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) スミス ライアン / Ryan Smith / スミス ライアン
第6著者 所属(和/英) 東京大学 (略称: 東大)
The University of Tokyo (略称: UTokyo)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 生稲 新太郎 / Shintaro Ikuine / イクイネ シンタロウ
第7著者 所属(和/英) ハイソル株式会社 (略称: ハイソル)
HiSOL Incorporated (略称: HiSOL)
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講演者 第1著者 
発表日時 2020-01-17 16:45:00 
発表時間 15分 
申込先研究会 SCE 
資料番号 SCE2019-75 
巻番号(vol) vol.119 
号番号(no) no.369 
ページ範囲 pp.183-187 
ページ数
発行日 2020-01-09 (SCE) 


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