お知らせ
2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ
技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ
電子情報通信学会における研究会開催について
お知らせ NEW
参加費の返金について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
トップに戻る
前のページに戻る
[Japanese]
/
[English]
講演抄録/キーワード
講演名
2020-03-06 14:45
高温成長後の冷却速度がFe-Co合金単結晶膜の構造と磁歪特性に及ぼす影響
○
秋田谷 燿
(
横浜国大
)・
芹澤伽那
(
横浜国大/中大
)・
大竹 充
・
川井哲郎
(
横浜国大
)・
二本正昭
(
横浜国大/中大
)・
桐野文良
(
東京藝術大
)・
稲葉信幸
(
山形大
)
MRIS2019-47
エレソ技報アーカイブへのリンク:
MRIS2019-47
抄録
(和)
(まだ登録されていません)
(英)
(Not available yet)
キーワード
(和)
/ / / / / / /
(英)
/ / / / / / /
文献情報
信学技報, vol. 119, no. 464, MRIS2019-47, pp. 21-25, 2020年3月.
資料番号
MRIS2019-47
発行日
2020-02-28 (MRIS)
ISSN
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード
MRIS2019-47
エレソ技報アーカイブへのリンク:
MRIS2019-47
研究会情報
研究会
MRIS IEE-MAG
開催期間
2020-03-06 - 2020-03-06
開催地(和)
名古屋大学
開催地(英)
Nagoya Univ.
テーマ(和)
光記録・磁気記録,一般
テーマ(英)
Optical Recording, Magnetic Recording, etc.
講演論文情報の詳細
申込み研究会
MRIS
会議コード
2020-03-MRIS-MAG
本文の言語
日本語
タイトル(和)
高温成長後の冷却速度がFe-Co合金単結晶膜の構造と磁歪特性に及ぼす影響
サブタイトル(和)
タイトル(英)
Influence of cooling rate after high-temperature growth on the structural and magnetostrictive properties of Fe-Co alloy single-crystal film
サブタイトル(英)
キーワード(1)(和/英)
/
キーワード(2)(和/英)
/
キーワード(3)(和/英)
/
キーワード(4)(和/英)
/
キーワード(5)(和/英)
/
キーワード(6)(和/英)
/
キーワード(7)(和/英)
/
キーワード(8)(和/英)
/
第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
秋田谷 燿
/
Teru Akitaya
/
アキタヤ テル
第1著者 所属(和/英)
横浜国立大学
(略称:
横浜国大
)
Yokohama National University
(略称:
YNU
)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
芹澤 伽那
/
Kana Serizawa
/
セリザワ カナ
第2著者 所属(和/英)
横浜国立大学/中央大学
(略称:
横浜国大/中大
)
Yokohama National University/Chuo University
(略称:
YNU/Chuo Univ.
)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
大竹 充
/
Mitsuru Ohtake
/
オオタケ ミツル
第3著者 所属(和/英)
横浜国立大学
(略称:
横浜国大
)
Yokohama National University
(略称:
YNU
)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
川井 哲郎
/
Tetsuroh Kawai
/
カワイ テツロウ
第4著者 所属(和/英)
横浜国立大学
(略称:
横浜国大
)
Yokohama National University
(略称:
YNU
)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
二本 正昭
/
Masaaki Futamoto
/
フタモト マサアキ
第5著者 所属(和/英)
横浜国立大学/中央大学
(略称:
横浜国大/中大
)
Yokohama National University/Chuo University
(略称:
YNU/Chuo Univ.
)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
桐野 文良
/
Fumiyoshi Kirino
/
キリノ フミヨシ
第6著者 所属(和/英)
東京藝術大学
(略称:
東京藝術大
)
Tokyo University of the Arts
(略称:
Tokyo Univ. Arts
)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
稲葉 信幸
/
Nobuyuki Inaba
/
イナバ ノブユキ
第7著者 所属(和/英)
山形大学
(略称:
山形大
)
Yamagata University
(略称:
Yamagata Univ.
)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第8著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第9著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第10著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第11著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第12著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第13著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第14著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第15著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第16著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第17著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第18著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第19著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第20著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
講演者
第1著者
発表日時
2020-03-06 14:45:00
発表時間
25分
申込先研究会
MRIS
資料番号
MRIS2019-47
巻番号(vol)
vol.119
号番号(no)
no.464
ページ範囲
pp.21-25
ページ数
5
発行日
2020-02-28 (MRIS)
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]
[電子情報通信学会ホームページ]
IEICE / 電子情報通信学会