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講演抄録/キーワード
講演名 2020-12-02 11:40
ニューラルネットワーク用強誘電体薄膜の誘電特性評価
石崎勇真梅村浩輝松川大毅木村 睦龍谷大)・徳光永輔北陸先端大)・羽賀健一土井利浩三菱マテリアルEID2020-5 SDM2020-39
抄録 (和) ニューロモーフィックシステムは、ニューロンとシナプスの要素を実装するハードウェアレベルの生体模擬システムであり、低消費電力、小サイズなどの人間の脳と同じ利点がある.本研究では、強誘電体薄膜である(Bi,La) 4 Ti 3 O 12 (BLT)とPb(Zr,Ti)O3(PZT)を用いて、上部電極が下部電極に対して直行になる構造をしたキャパシタ型のシナプスを作製した.デバイス評価として電気的特性を測定し、シナプスとしての有用性を確認することができた.キャパシタ型のシナプスを用いて文字補正学習を行い、学習段階で入力したパターンと最終的な出力パターンが一致したことより、学習に成功したことを示す. 
(英) The neuromorphic system is a hardware-level biosimulation system that implements neuron and synaptic elements. It has the same advantages as the human brain, such as low power consumption and small size. Power consumption does not small with conventional memristor synapses. Therefore, we proposed the synapse of Memcapacitor for low power consumption. In this study, we created a capacitor-type synapse with ferroelectric thin film (Bi,La) 4 Ti 3 O 12 (BLT) and Pb(Zr,Ti)O3(PZT). Electrical characteristics were measured as a device evaluation. It showed usefulness as a synapse. Character correction learning was performed using capacitor-type synapses. The modified pattern matched the memorized pattern, indicating successful training.
キーワード (和) ニューロモーフィックシステム / 強誘電体 / シナプス / / / / /  
(英) neuromorphic system / ferroelectric / synapse / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 120, no. 272, EID2020-5, pp. 17-20, 2020年12月.
資料番号 EID2020-5 
発行日 2020-11-25 (EID, SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード EID2020-5 SDM2020-39

研究会情報
研究会 EID SDM ITE-IDY  
開催期間 2020-12-02 - 2020-12-02 
開催地(和) オンライン開催 
開催地(英) Online 
テーマ(和) シリコン関連材料の作製と評価およびディスプレイ技術 / 半導体材料プロセス・デバイス研究会 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 EID 
会議コード 2020-12-EID-SDM-IDY 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) ニューラルネットワーク用強誘電体薄膜の誘電特性評価 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Evaluation of dielectric properties of ferroelectric thin films for neural networks 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) ニューロモーフィックシステム / neuromorphic system  
キーワード(2)(和/英) 強誘電体 / ferroelectric  
キーワード(3)(和/英) シナプス / synapse  
キーワード(4)(和/英) /  
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キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 石崎 勇真 / Yuma Ishisaki / イシサキ ユウマ
第1著者 所属(和/英) 龍谷大学 (略称: 龍谷大)
Ryukoku University (略称: RU)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 梅村 浩輝 / Hiroki Umemura / ウメムラ ヒロキ
第2著者 所属(和/英) 龍谷大学 (略称: 龍谷大)
Ryukoku University (略称: RU)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 松川 大毅 / Daiki Matsukawa / マツカワ ダイキ
第3著者 所属(和/英) 龍谷大学 (略称: 龍谷大)
Ryukoku University (略称: RU)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 木村 睦 / Mutsumi Kimura / キムラ ムツミ
第4著者 所属(和/英) 龍谷大学 (略称: 龍谷大)
Ryukoku University (略称: RU)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 徳光 永輔 / Eisuke Tokumitsu / トクミツ エイスケ
第5著者 所属(和/英) 北陸先端科学技術大学院大学 (略称: 北陸先端大)
Japan Advanced Institute of Science and Technology (略称: JAIST)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 羽賀 健一 / Kenichi Haga / ハガ ケンイチ
第6著者 所属(和/英) 三菱マテリアル株式会社 (略称: 三菱マテリアル)
Mitsubishi Materials Corporation (略称: MMC)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 土井 利浩 / Toshihiro Doi / ドイ トシヒロ
第7著者 所属(和/英) 三菱マテリアル株式会社 (略称: 三菱マテリアル)
Mitsubishi Materials Corporation (略称: MMC)
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講演者 第1著者 
発表日時 2020-12-02 11:40:00 
発表時間 15分 
申込先研究会 EID 
資料番号 EID2020-5, SDM2020-39 
巻番号(vol) vol.120 
号番号(no) no.272(EID), no.273(SDM) 
ページ範囲 pp.17-20 
ページ数
発行日 2020-11-25 (EID, SDM) 


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