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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2021-03-02 10:30 半導体デバイスの物理的洗浄技術の一考察 ○清家善之・森 竜雄（愛知工大）  OME2020-27 |
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| 抄録 | （和） | 半導体デバイスの製造プロセスにおいて、超音波、スプレー、ブラシを利用した枚葉式の物理的なウェット洗浄が広く使われている。本報告では、これらの超音波スプレー洗浄、一流体高圧スプレー洗浄および二流体スプレーの原理を巨視的な流体力学の観点から推測し、実際にポリスチレンラテックス粒子(PSL粒子)を塗布した基板を用いて、それらの特徴を実験で確認した。 |
| （英） | Single-wafer physical wet cleaning using ultrasonic waves, sprays, and brushes is widely used in chip manufacturing. In this report, the principles of ultrasonic spray cleaning, high-pressure spray cleaning, and two-fluid spray are speculated from the viewpoint of macroscopic fluid dynamics, and their characteristics are experimentally confirmed using substrates coated with polystyrene latex (PSL) particles. | |
| キーワード | （和） | 半導体デバイス / 物理洗浄 / 超音波スプレー / 二流体スプレー / 高圧スプレー / / / |
| （英） | Semiconductor devices / Physical cleaning / Ultrasonic spray / Two-fluid spray / High-pressure spray / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 120, no. 383, OME2020-27, pp. 31-34, 2021年3月. | |
| 資料番号 | OME2020-27 | |
| 発行日 | 2021-02-22 (OME) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | OME2020-27 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | OME IEE-DEI |
| 開催期間 | 2021-03-01 - 2021-03-02 |
| 開催地（和） | オンライン開催 |
| 開催地（英） | Online |
| テーマ（和） | 有機材料・薄膜、有機デバイス、一般 |
| テーマ（英） | Organic Molecular Electronics |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | OME |
| 会議コード | 2021-03-OME-DEI |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 半導体デバイスの物理的洗浄技術の一考察 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | A Study of Physical Cleaning Techniques for Semiconductor Devices |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 半導体デバイス / Semiconductor devices |
| キーワード(2)（和/英） | 物理洗浄 / Physical cleaning |
| キーワード(3)（和/英） | 超音波スプレー / Ultrasonic spray |
| キーワード(4)（和/英） | 二流体スプレー / Two-fluid spray |
| キーワード(5)（和/英） | 高圧スプレー / High-pressure spray |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 清家 善之 / Yoshiyuki Seike / セイケ ヨシユキ |
| 第1著者 所属（和/英） | 愛知工業大学 (略称： 愛知工大) Aichi Institute of Technology (略称： AIT) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 森 竜雄 / Tatsuo Mori / モリ タツオ |
| 第2著者 所属（和/英） | 愛知工業大学 (略称： 愛知工大) Aichi Institute of Technology (略称： AIT) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2021-03-02 10:30:00 |
| 発表時間 | 20分 |
| 申込先研究会 | OME |
| 資料番号 | OME2020-27 |
| 巻番号（vol） | vol.120 |
| 号番号（no） | no.383 |
| ページ範囲 | pp.31-34 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2021-02-22 (OME) |
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