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講演抄録/キーワード
講演名 2021-04-16 13:05
Co-Zr-Nb膜の負の透磁率によるマイクロストリップ線路間のクロストークへの影響
小林拓真室賀 翔田中元志秋田大)・遠藤 恭枦 修一郎石山和志東北大)・直江正幸電磁材料研EMCJ2021-1
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文献情報 信学技報, vol. 121, no. 6, EMCJ2021-1, pp. 1-5, 2021年4月.
資料番号 EMCJ2021-1 
発行日 2021-04-09 (EMCJ) 
ISSN Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード EMCJ2021-1

研究会情報
研究会 EMCJ  
開催期間 2021-04-16 - 2021-04-16 
開催地(和) オンライン開催 
開催地(英) Online 
テーマ(和) EMC一般 
テーマ(英) EMC 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 EMCJ 
会議コード 2021-04-EMCJ 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) Co-Zr-Nb膜の負の透磁率によるマイクロストリップ線路間のクロストークへの影響 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Effect of Negative Permeability of Co-Zr-Nb Film on Crosstalk between Microstrip Lines 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 小林 拓真 / Takuma Kobayashi / コバヤシ タクマ
第1著者 所属(和/英) 秋田大学 (略称: 秋田大)
Akita University (略称: Akita Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 室賀 翔 / Sho Muroga / ムロガ ショウ
第2著者 所属(和/英) 秋田大学 (略称: 秋田大)
Akita University (略称: Akita Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 田中 元志 / Motoshi Tanaka / タナカ モトシ
第3著者 所属(和/英) 秋田大学 (略称: 秋田大)
Akita University (略称: Akita Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 遠藤 恭 / Yasushi Endo / エンドウ ヤスシ
第4著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 枦 修一郎 / Shuichiro Hashi / ハシ シュウイチロウ
第5著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 石山 和志 / Kazushi Ishiyama / イシヤマ カズシ
第6著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 直江 正幸 / Masayuki Naoe / ナオエ マサユキ
第7著者 所属(和/英) 電磁材料研究所 (略称: 電磁材料研)
Research Institute for Electromagnetic Materials (略称: RIEM)
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講演者 第1著者 
発表日時 2021-04-16 13:05:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 EMCJ 
資料番号 EMCJ2021-1 
巻番号(vol) vol.121 
号番号(no) no.6 
ページ範囲 pp.1-5 
ページ数
発行日 2021-04-09 (EMCJ) 


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