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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2021-05-26 14:10 ［招待講演］グローバルシャッタ型CMOSテラヘルツイメージセンサの利得・応答性のバラツキ補正機構 ○池辺将之・平田悠馬・鎌田夏実・金澤悠里（北大）  MWP2021-2 |
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| 抄録 | （和） | グローバルシャッタ型CMOSテラヘルツイメージセンサに向けた，利得の画素バラツキ補正機構を提案する．テラヘルツ波を受信しMOSFETによって包絡線検波を行う際，製造バラツキの影響で画素ごとに利得の変動が生じる．我々は検波用MOSFETの動作点と応答性を決定する電流源を，基板電位にバイアスされたMOSFETに流れる微小電流を用いて校正し，全ての画素で同時に利得バラツキを抑える方法を提案する．適切に動作点を決定することで，利得の変動を抑えられることを確認した． |
| （英） | This study proposes a technique to compensate for pixel variation in gain of a global-shutter CMOS terahertz image sensor. When receiving terahertz waves and performing envelope detection using MOSFETs, the gain of each pixel fluctuates due to manufacturing variations. Here, we try to implement a method for simultaneously suppressing the gain variation in all pixels by calibrating the current source that determines the operating point and response of the detection MOSFET using a small current flowing in the MOSFET biased to the substrate potential. It is confirmed that the gain variation can be suppressed by properly determining the operating point. | |
| キーワード | （和） | テラヘルツ / イメージセンサ / ピクセル並列 / グローバルシャッタ / 製造バラツキ / / / |
| （英） | terahertz wave / image sensor / pixel parallel / global shutter / product variation / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 121, no. 39, MWP2021-2, pp. 6-9, 2021年5月. | |
| 資料番号 | MWP2021-2 | |
| 発行日 | 2021-05-19 (MWP) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | MWP2021-2 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | MWP |
| 開催期間 | 2021-05-26 - 2021-05-26 |
| 開催地（和） | オンライン開催 |
| 開催地（英） | Online |
| テーマ（和） | MWP一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | MWP |
| 会議コード | 2021-05-MWP |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | グローバルシャッタ型CMOSテラヘルツイメージセンサの利得・応答性のバラツキ補正機構 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | A Calibration Technique in Gain and Responsivity for Global Shutter CMOS Terahertz Image Sensor |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | テラヘルツ / terahertz wave |
| キーワード(2)（和/英） | イメージセンサ / image sensor |
| キーワード(3)（和/英） | ピクセル並列 / pixel parallel |
| キーワード(4)（和/英） | グローバルシャッタ / global shutter |
| キーワード(5)（和/英） | 製造バラツキ / product variation |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 池辺 将之 / Masayuki Ikebe / イケベ マサユキ |
| 第1著者 所属（和/英） | 北海道大学 (略称： 北大) Hokkaido University (略称： Hokkaido Unive.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 平田 悠馬 / Yuma Hirata / ヒラタ ユウマ |
| 第2著者 所属（和/英） | 北海道大学 (略称： 北大) Hokkaido University (略称： Hokkaido Unive.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 鎌田 夏実 / Natsumi Kamada / カマダ ナツミ |
| 第3著者 所属（和/英） | 北海道大学 (略称： 北大) Hokkaido University (略称： Hokkaido Unive.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 金澤 悠里 / Yuri Kanazawa / カナザワ ユウリ |
| 第4著者 所属（和/英） | 北海道大学 (略称： 北大) Hokkaido University (略称： Hokkaido Unive.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2021-05-26 14:10:00 |
| 発表時間 | 50分 |
| 申込先研究会 | MWP |
| 資料番号 | MWP2021-2 |
| 巻番号（vol） | vol.121 |
| 号番号（no） | no.39 |
| ページ範囲 | pp.6-9 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2021-05-19 (MWP) |
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