講演抄録/キーワード |
講演名 |
2021-10-21 11:35
スパッタリング法を用いて形成した酸化ガリウム薄膜の基礎評価 ○今泉文伸(小山高専) SDM2021-45 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2021-45 |
抄録 |
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キーワード |
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文献情報 |
信学技報, vol. 121, no. 212, SDM2021-45, pp. 5-7, 2021年10月. |
資料番号 |
SDM2021-45 |
発行日 |
2021-10-14 (SDM) |
ISSN |
Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
PDFダウンロード |
SDM2021-45 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2021-45 |
研究会情報 |
研究会 |
SDM |
開催期間 |
2021-10-21 - 2021-10-21 |
開催地(和) |
オンライン開催 |
開催地(英) |
Online |
テーマ(和) |
プロセス科学と新プロセス技術 |
テーマ(英) |
Process Science and New Process Technology |
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
SDM |
会議コード |
2021-10-SDM |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
スパッタリング法を用いて形成した酸化ガリウム薄膜の基礎評価 |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
Characterization of Gallium Oxide Thin Film Deposited by Sputtering Method |
サブタイトル(英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
今泉 文伸 / Fuminobu Imaizumi / |
第1著者 所属(和/英) |
小山工業高等専門学校 (略称: 小山高専)
National Institute of Technology, Oyama College (略称: NIT, Oyama college) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2021-10-21 11:35:00 |
発表時間 |
25分 |
申込先研究会 |
SDM |
資料番号 |
SDM2021-45 |
巻番号(vol) |
vol.121 |
号番号(no) |
no.212 |
ページ範囲 |
pp.5-7 |
ページ数 |
3 |
発行日 |
2021-10-14 (SDM) |
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