講演抄録/キーワード |
講演名 |
2022-02-04 10:40
[招待講演]低温焼結塗布型シリカを用いた印刷エレクトロニクス ○三成剛生(物質・材料研究機構)・孫 晴晴(鄭州大)・李 玲穎(物質・材料研究機構)・李 万里(江南大)・劉 旭影(鄭州大) SDM2021-76 |
抄録 |
(和) |
金属インクを塗布・印刷することで配線や電子素子を形成するプリンテッドエレクトロニクスは,フレキシブル基板上に低温・低コストで配線を簡便に形成できる.我々は,塗布プロセスによる成膜が可能で,低温(90 °C)で焼結できるプリンテッドエレクトロニクス向けの層間絶縁材料として,低温焼結塗布型シリカ(LCSS)を開発した.本稿では,LCSSに対する金属インクの微細印刷技術と,三次元配線技術,印刷によって薄膜トランジスタ素子を形成した例を紹介する. |
(英) |
Fabrication of electronics devices by Printed Electronics has attracted considerable interest because of the low-processing temperature and low cost. We have recently developed low-temperature-catalyzed, solution-processed SiO2 (LCSS) as the interlayer insulating material for Printed Electronics, which subsequently enabled printing of high-performance thin-film transistors (TFTs) and three-dimensional circuits connecting various elements. These TFTs with an LCSS insulating layer, produced through printing alone, exhibited the highest field-effect mobilities among fully-printed TFTs ever recorded (70 cm2 V-1 s-1) at an operating voltage of 1 V or less. These results may facilitate the development of various printed devices, such as printed displays and highly sensitive sensors. |
キーワード |
(和) |
プリンテッドエレクトロニクス / 金属ナノ粒子インク / 低温焼結塗布型シリカ / 薄膜トランジスタ / / / / |
(英) |
Printed Electronics / Metal nanoparticle ink / Solution-processed SiO2 / Thin-Film Transistors / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 121, no. 366, SDM2021-76, pp. 9-12, 2022年2月. |
資料番号 |
SDM2021-76 |
発行日 |
2022-01-28 (SDM) |
ISSN |
Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
PDFダウンロード |
SDM2021-76 |
研究会情報 |
研究会 |
SDM |
開催期間 |
2022-02-04 - 2022-02-04 |
開催地(和) |
オンライン開催 |
開催地(英) |
Online |
テーマ(和) |
配線・実装技術と関連材料技術 |
テーマ(英) |
|
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
SDM |
会議コード |
2022-02-SDM |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
低温焼結塗布型シリカを用いた印刷エレクトロニクス |
サブタイトル(和) |
|
タイトル(英) |
Printed Electronics using low-temperature catalyzed solution-processed SiO2 |
サブタイトル(英) |
|
キーワード(1)(和/英) |
プリンテッドエレクトロニクス / Printed Electronics |
キーワード(2)(和/英) |
金属ナノ粒子インク / Metal nanoparticle ink |
キーワード(3)(和/英) |
低温焼結塗布型シリカ / Solution-processed SiO2 |
キーワード(4)(和/英) |
薄膜トランジスタ / Thin-Film Transistors |
キーワード(5)(和/英) |
/ |
キーワード(6)(和/英) |
/ |
キーワード(7)(和/英) |
/ |
キーワード(8)(和/英) |
/ |
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
三成 剛生 / Takeo Minari / ミナリ タケオ |
第1著者 所属(和/英) |
物質・材料研究機構 (略称: 物質・材料研究機構)
National Institute for Materials Science (略称: NIMS) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
孫 晴晴 / Qingqing Sun / スン チンチン |
第2著者 所属(和/英) |
鄭州大学 (略称: 鄭州大)
Zhengzhou University (略称: Zhengzhou Univ.) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
李 玲穎 / Lingying Li / リ リンイン |
第3著者 所属(和/英) |
物質・材料研究機構 (略称: 物質・材料研究機構)
National Institute for Materials Science (略称: NIMS) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
李 万里 / Wanli Li / リ ワンリ |
第4著者 所属(和/英) |
江南大学 (略称: 江南大)
Jiangnan University (略称: Jiangnan Univ.) |
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
劉 旭影 / Xuying Liu / リュウ シューイン |
第5著者 所属(和/英) |
鄭州大学 (略称: 鄭州大)
Zhengzhou University (略称: Zhengzhou Univ.) |
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第6著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第7著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第8著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第9著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第10著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第11著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第12著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第13著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第14著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第15著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第16著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第17著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第18著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第19著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第20著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第21著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第21著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第22著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第22著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第23著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第23著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第24著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第24著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第25著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第25著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第26著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第26著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第27著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第27著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第28著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第28著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第29著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第29著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第30著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第30著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第31著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第31著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第32著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第32著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第33著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第33著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第34著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第34著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第35著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第35著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第36著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第36著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2022-02-04 10:40:00 |
発表時間 |
40分 |
申込先研究会 |
SDM |
資料番号 |
SDM2021-76 |
巻番号(vol) |
vol.121 |
号番号(no) |
no.366 |
ページ範囲 |
pp.9-12 |
ページ数 |
4 |
発行日 |
2022-01-28 (SDM) |