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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2022-02-24 15:05 ［招待講演］シリカガラスの高温高圧処理による低損失化 ～ シリカガラスの構造中の空隙制御 ～ ○小野円佳（北大）  OCS2021-41 OPE2021-52 |
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| 抄録 | （和） | シリカガラス（SiO2）は通信用光ファイバのコア材料として広く用いられる.ファイバの光損失は,通信波長帯において0.2dB/km程度であるが,損失が更に低減すれば光信号の増幅器の節約だけでなく,中継器の作成が原理的に困難な量子通信の普及につながる可能性がある.このため光ファイバの損失低減は,今もなお重要な研究課題である.我々はシリカガラスに高温下で高い圧力を印可すると,ガラスの光散乱損失が大幅に抑制されることを見出した.また,分子動力学計算を使ったシミュレーションから,損失の更なる低減を予測した. |
| （英） | Optical losses in silica glass fibers remain a challenge in their applications. The main contributor to optical attenuation is Rayleigh scattering. This review discusses the recent studies and findings on voids in silica glass and their effects on the optical loss. Through experimental studies of pressure-quenching on glass at the melting temperature, void size shrunk, and the optical loss was reduced to approximately half of that of conventional optical fibers at 0.2 GPa. Our modeling results predicted that further reduction was expected, credited to the optimization of the glass network, called topological pruning, under high compressive pressures of up to 4 GPa. | |
| キーワード | （和） | シリカガラス / レイリー散乱損失 / 空隙 / 陽電子消滅寿命測定 / 高温高圧処理 / / / |
| （英） | Rayleigh scattering loss / silica glass / Structural void / Positron Annihilation Spectroscopy / Hot compression / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 121, no. 375, OCS2021-41, pp. 1-4, 2022年2月. | |
| 資料番号 | OCS2021-41 | |
| 発行日 | 2022-02-17 (OCS, OPE) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | OCS2021-41 OPE2021-52 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | OPE OFT OCS |
| 開催期間 | 2022-02-24 - 2022-02-25 |
| 開催地（和） | オンライン開催 |
| 開催地（英） | Online |
| テーマ（和） | 光波センシング、光波制御・検出、光計測、ニューロ、光ファイバ（ホーリーファイバ、マルチコアファイバ等含む）伝送とファイバ光増幅・接続技術、光ファイバ計測応用、通信用光ファイバ、光ファイバコード・ケーブル、機能性光ファイバ、空間分割多重（SDM）光ファイバ技術、光接続・コネクタ・配線技術、光インターコネクション、光線路保守監視・試験技術、光ファイバ測定技術、一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | OCS |
| 会議コード | 2022-02-OPE-OFT-OCS |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | シリカガラスの高温高圧処理による低損失化 |
| サブタイトル（和） | シリカガラスの構造中の空隙制御 |
| タイトル（英） | Suppression of Rayleigh scattering loss in silica glass by hot-compression |
| サブタイトル（英） | The role of structural voids in silica glass |
| キーワード(1)（和/英） | シリカガラス / Rayleigh scattering loss |
| キーワード(2)（和/英） | レイリー散乱損失 / silica glass |
| キーワード(3)（和/英） | 空隙 / Structural void |
| キーワード(4)（和/英） | 陽電子消滅寿命測定 / Positron Annihilation Spectroscopy |
| キーワード(5)（和/英） | 高温高圧処理 / Hot compression |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小野 円佳 / Madoka Ono / オノ マドカ |
| 第1著者 所属（和/英） | 北海道大学 (略称： 北大) Hokkaido University (略称： Hokkaido Univ.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2022-02-24 15:05:00 |
| 発表時間 | 45分 |
| 申込先研究会 | OCS |
| 資料番号 | OCS2021-41, OPE2021-52 |
| 巻番号（vol） | vol.121 |
| 号番号（no） | no.375(OCS), no.377(OPE) |
| ページ範囲 | pp.1-4(OCS), pp.17-20(OPE) |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2022-02-17 (OCS, OPE) |
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