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| 講演名 | 2022-04-15 14:45 薄膜高誘電率基板を用いた低インピーダンスPDNによるクロストーク抑制効果の解析 ○北澤太基・キム ヨンウ・藤本大介・林 優一（奈良先端大）  EMCJ2022-5 |
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| 抄録 | （和） | 高インピーダンス電源供給ネットワーク (PDN: Power Delivery Network) に起因して生じるクロストークは、信号ビアにおけるリターン電流の不連続性がノイズの発生要因であるため、デカップリングキャパシタなどの対策によりPDNインピーダンスを低減することで抑止可能であるが、基板上の適用範囲や周波数帯域が限定される。一方、薄膜または高誘電率の特性を有する基板は、PDNインピーダンスを低い値で維持することができるが、これらの基板を用いた場合のクロストークへの影響とその抑制効果は十分に検討されていない。そこで本稿では、GNDおよび電源プレーン間が異なる材料で構成された3種類の基板において、高インピーダンスPDNに起因して生じるクロストークをEye Diagramを用いて比較した。その結果、厚さ24 μm以下の薄膜および誘電率9.5の高誘電率の基板を用いた場合、従来の基板に比べクロストークを抑制できると明らかになった。 |
| （英） | The high impedance power delivery network (PDN) induced crosstalk is caused by the return current discontinuity of signal vias. Although it is possible to prevent this problem by reducing the PDN impedance with decoupling capacitors, the application range on the board and frequency bandwidth are limited. Meanwhile, substrates with ultra-thin or high dielectric permittivity can maintain low PDN impedance, but the impact on crosstalk and its suppression efficiency when these substrates are used have not been discussed. In this paper, we compare the impacts on high PDN impedance induced crosstalk using eye diagram in three types of substrates of different materials between GND and power planes. As a result, the ultra-thin and high permittivity substrate can suppress the impacts of the high impedance PDN induced crosstalk significantly. | |
| キーワード | （和） | 電源供給ネットワーク / クロストーク / 薄膜基板 / 高誘電率基板 / Eye Diagram / / / |
| （英） | Power Delivery Network / Crosstalk / Ultra-thin substrate / High permittivity substrate / Eye diagram / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 122, no. 4, EMCJ2022-5, pp. 25-30, 2022年4月. | |
| 資料番号 | EMCJ2022-5 | |
| 発行日 | 2022-04-08 (EMCJ) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | EMCJ2022-5 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | EMCJ |
| 開催期間 | 2022-04-15 - 2022-04-15 |
| 開催地（和） | 沖縄県市町村自治会館 |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | EMC一般 |
| テーマ（英） | EMC |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | EMCJ |
| 会議コード | 2022-04-EMCJ |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 薄膜高誘電率基板を用いた低インピーダンスPDNによるクロストーク抑制効果の解析 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Analysis of Crosstalk Suppression by Low-Impedance PDN Using Ultra-Thin and High Dielectric Permittivity Substrates |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 電源供給ネットワーク / Power Delivery Network |
| キーワード(2)（和/英） | クロストーク / Crosstalk |
| キーワード(3)（和/英） | 薄膜基板 / Ultra-thin substrate |
| キーワード(4)（和/英） | 高誘電率基板 / High permittivity substrate |
| キーワード(5)（和/英） | Eye Diagram / Eye diagram |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 北澤 太基 / Taiki Kitazawa / キタザワ タイキ |
| 第1著者 所属（和/英） | 奈良先端科学技術大学院大学 (略称： 奈良先端大) Nara Institute of Science and Technology (略称： NAIST) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | キム ヨンウ / Youngwoo Kim / キム ヨンウ |
| 第2著者 所属（和/英） | 奈良先端科学技術大学院大学 (略称： 奈良先端大) Nara Institute of Science and Technology (略称： NAIST) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 藤本 大介 / Daisuke Fujimoto / フジモト ダイスケ |
| 第3著者 所属（和/英） | 奈良先端科学技術大学院大学 (略称： 奈良先端大) Nara Institute of Science and Technology (略称： NAIST) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 林 優一 / Yuichi Hayashi / ハヤシ ユウイチ |
| 第4著者 所属（和/英） | 奈良先端科学技術大学院大学 (略称： 奈良先端大) Nara Institute of Science and Technology (略称： NAIST) |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2022-04-15 14:45:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | EMCJ |
| 資料番号 | EMCJ2022-5 |
| 巻番号（vol） | vol.122 |
| 号番号（no） | no.4 |
| ページ範囲 | pp.25-30 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2022-04-08 (EMCJ) |
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