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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2022-04-22 14:10 熱処理による酸化物半導体InGaZnOx薄膜トランジスタの特性改善メカニズムと低温化 Rostislav Velichko（高知工科大）・曲 勇作（島根大）・○古田 守（高知工科大）  SDM2022-4 OME2022-4 |
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| 抄録 | （和） | 代表的な金属酸化物半導体薄膜トランジスタ（TFT）であるIn–Ga–Zn–O (IGZO) TFTは10 cm2/Vsを超える電界効果移動度を有し、スパッタリング法で室温形成可能なことより次世代ディスプレイやフレキシブルデバイス応用で注目されている。しかしながら、スパッタ成膜IGZOをチャネルに用いたTFTでは特性改善や信頼性確保に300℃程度の熱処理が必要であることが知られている。本発表では熱処理によるIGZO TFTの特性改善メカニズムを議論し、我々が提唱している水素添加IGZO（IGZO:H）による熱処理温度低温化に関しても議論する。 |
| （英） | (Not available yet) | |
| キーワード | （和） | In-Ga-Zn-O (IGZO) / 薄膜トランジスタ（TFT） / in-situ Hall測定 / 硬X線光電子分光 / / / / |
| （英） | / / / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 122, no. 8, SDM2022-4, pp. 17-20, 2022年4月. | |
| 資料番号 | SDM2022-4 | |
| 発行日 | 2022-04-15 (SDM, OME) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | SDM2022-4 OME2022-4 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | OME SDM |
| 開催期間 | 2022-04-22 - 2022-04-23 |
| 開催地（和） | 高千穂ホール（宮崎市） |
| 開催地（英） | Takachiho Hall |
| テーマ（和） | 薄膜（Si,化合物,有機,フレキシブル）機能デバイス・バイオテクノロジー・材料・評価技術および一般 |
| テーマ（英） | Thin film devices (Si, compound, organic, flexible), Biotechnology, Materials, Characterization, etc. |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2022-04-OME-SDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 熱処理による酸化物半導体InGaZnOx薄膜トランジスタの特性改善メカニズムと低温化 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Mechanism for improving electrical properties of InGaZnOx thin-film transistors through annealing |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | In-Ga-Zn-O (IGZO) / |
| キーワード(2)（和/英） | 薄膜トランジスタ（TFT） / |
| キーワード(3)（和/英） | in-situ Hall測定 / |
| キーワード(4)（和/英） | 硬X線光電子分光 / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | Rostislav Velichko / Rostislav Velichko / ロスティスラフ ベリチェコ |
| 第1著者 所属（和/英） | 高知工科大学 (略称： 高知工科大) Kochi University of Technology (略称： KUT) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 曲 勇作 / Yusaku Magari / マガリ ユウサク |
| 第2著者 所属（和/英） | 島根大学 (略称： 島根大) Shimane University (略称： Shimane Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 古田 守 / Mamoru Furuta / フルタ マモル |
| 第3著者 所属（和/英） | 高知工科大学 (略称： 高知工科大) Kochi University of Technology (略称： KUT) |
| 講演者 | 第3著者 |
| 発表日時 | 2022-04-22 14:10:00 |
| 発表時間 | 30分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | SDM2022-4, OME2022-4 |
| 巻番号（vol） | vol.122 |
| 号番号（no） | no.8(SDM), no.9(OME) |
| ページ範囲 | pp.17-20 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2022-04-15 (SDM, OME) |
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