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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2022-06-16 14:00 測長SEMにおける装置間機差マッチング管理のための機差要因解析手法の検討 ○棚橋直哉・高田晋太郎（日立）  R2022-6 |
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| 抄録 | （和） | 近年半導体プロセスが微細化し，複数の測長SEMの測長値ばらつき(機差)をサブナノメートル単位に収めることが求められていることから，装置間機差が発生した場合の要因解析に関して自動化の要望が高まっている．そこで本研究では，複数の測長SEMのデータから正常装置と機差装置を分類する機械学習モデル(RandomForest)を構築した後，機械学習モデルに対する個々の変数の寄与度を表すSHAP値をもとに機差要因候補を抽出するという機差要因解析手法を提案した．意図的に機差を発生させた装置を含む，6台の測長SEMのデータに本手法を適用した結果，従来手法では抽出できない機差要因変数を抽出可能であることを確認し，本手法の有効性が示された． |
| （英） | (Not available yet) | |
| キーワード | （和） | 測長SEM / 要因解析 / 装置間機差マッチング管理 / 機械学習 / / / / |
| （英） | / / / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 122, no. 79, R2022-6, pp. 1-6, 2022年6月. | |
| 資料番号 | R2022-6 | |
| 発行日 | 2022-06-09 (R) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | R2022-6 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | R |
| 開催期間 | 2022-06-16 - 2022-06-16 |
| 開催地（和） | オンライン開催 |
| 開催地（英） | Online |
| テーマ（和） | 信頼性一般 |
| テーマ（英） | Reliability General |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | R |
| 会議コード | 2022-06-R |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 測長SEMにおける装置間機差マッチング管理のための機差要因解析手法の検討 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Study on cause analysis method for tool to tool matching management for CD-SEM |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 測長SEM / |
| キーワード(2)（和/英） | 要因解析 / |
| キーワード(3)（和/英） | 装置間機差マッチング管理 / |
| キーワード(4)（和/英） | 機械学習 / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 棚橋 直哉 / Naoya Tanahashi / タナハシ ナオヤ |
| 第1著者 所属（和/英） | 株式会社 日立製作所 (略称： 日立) Hitachi, Ltd. (略称： Hitachi) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 高田 晋太郎 / Shintaro Takada / タカダ シンタロウ |
| 第2著者 所属（和/英） | 株式会社 日立製作所 (略称： 日立) Hitachi, Ltd. (略称： Hitachi) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2022-06-16 14:00:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | R |
| 資料番号 | R2022-6 |
| 巻番号（vol） | vol.122 |
| 号番号（no） | no.79 |
| ページ範囲 | pp.1-6 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2022-06-09 (R) |
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