| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 講演論文 詳細 |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
| トップに戻る | 前のページに戻る | [Japanese] / [English] |
| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2022-11-30 10:20 LUTベースの光強度推定による高速なSRAF最適化手法 ○齊藤颯太・高橋篤司（東工大）  VLD2022-40 ICD2022-57 DC2022-56 RECONF2022-63 |
|
| 抄録 | （和） | 近年，集積回路の微細化に伴い光リソグラフィにおいて転写パターンの忠実度の低下やプロセス変動耐性の低下が問題となっている．そのためOPC（Optical Proximity Correction）が行われるが，OPC に必要な時間は大きく，高い忠実度，高いプロセス変動耐性を高速に達成するOPC が求められている．本研究ではSRAF（Sub Resolution Assisting Feature）に着目し，LUT をベースとした特定の点の光強度計算を用いて SRAF を高速に最適化する手法を提案する． |
| （英） | Recent advances in technology nodes have led to problems in optical lithography such as reduced fidelity of transferred patterns and reduced robustness against process variations. However, the computation time required for OPC (Optical Proximity Correction) is large, and OPC that can achieve high fidelity and high process variation tolerance in short computation time is required. In this paper, we focus on SRAF (Sub Resolution Assisting Feature) and propose a method for fast optimization of SRAF using LUT based point intensity calculation. | |
| キーワード | （和） | リソグラフィ / 解像度向上技術 / 光近接効果補正 / SRAF / PV band / 最急降下法 / / |
| （英） | computational lithography / RET / OPC / SRAF / PV band / Gradient descent / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 122, no. 283, VLD2022-40, pp. 121-126, 2022年11月. | |
| 資料番号 | VLD2022-40 | |
| 発行日 | 2022-11-21 (VLD, ICD, DC, RECONF) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | VLD2022-40 ICD2022-57 DC2022-56 RECONF2022-63 |
|
| 研究会情報 | |
| 研究会 | VLD DC RECONF ICD IPSJ-SLDM |
| 開催期間 | 2022-11-28 - 2022-11-30 |
| 開催地（和） | 金沢市文化ホール |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | デザインガイア2022 -VLSI設計の新しい大地- |
| テーマ（英） | Design Gaia 2022 -New Field of VLSI Design- |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | VLD |
| 会議コード | 2022-11-VLD-DC-RECONF-ICD-SLDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | LUTベースの光強度推定による高速なSRAF最適化手法 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | A fast SRAF optimization used LUT based point intensity calculation |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | リソグラフィ / computational lithography |
| キーワード(2)（和/英） | 解像度向上技術 / RET |
| キーワード(3)（和/英） | 光近接効果補正 / OPC |
| キーワード(4)（和/英） | SRAF / SRAF |
| キーワード(5)（和/英） | PV band / PV band |
| キーワード(6)（和/英） | 最急降下法 / Gradient descent |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 齊藤 颯太 / Sota Saito / サイトウ ソウタ |
| 第1著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 高橋 篤司 / Atsushi Takahashi / タカハシ アツシ |
| 第2著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2022-11-30 10:20:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | VLD |
| 資料番号 | VLD2022-40, ICD2022-57, DC2022-56, RECONF2022-63 |
| 巻番号（vol） | vol.122 |
| 号番号（no） | no.283(VLD), no.284(ICD), no.285(DC), no.286(RECONF) |
| ページ範囲 | pp.121-126 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2022-11-21 (VLD, ICD, DC, RECONF) |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]