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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2022-12-08 14:20 3次元磁気メモリの実現に向けたCoPtの電解めっき膜 ○黄 童雙・高村陽太（東工大）・齋藤美紀子・エムディー マフムドゥル ハサン・荒木大輝・本間敬之（早大）・葛西伸哉（物質・材料研究機構）・山田啓介（岐阜大）・園部義明（早大）・小野輝男（京大）・中川茂樹（東工大）  MRIS2022-20 |
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| 抄録 | （和） | CoPt alloy is the appropriate material for the stacking layers owing to strong PMA for Co-rich alloy and controllability of Ku by changing the Co composition. CoPt stacking layers with different alternatively Ku are required. To deposit such stacking layers, the electrodeposition condition has been studied. CoPt layers with various compositions were successfully deposited by adjusting the applied voltage. However, the surface thin film deposited by DC electrodeposition was too rough for spin device fabrication. We conducted pulse electrodeposition and obtained an ultra-thin film with smooth morphology and good magnetic property. |
| （英） | CoPt alloy is the appropriate material for the stacking layers owing to strong PMA for Co-rich alloy and controllability of Ku by changing the Co composition. CoPt stacking layers with different alternatively Ku are required. To deposit such stacking layers, the electrodeposition condition has been studied. CoPt layers with various compositions were successfully deposited by adjusting the applied voltage. However, the surface thin film deposited by DC electrodeposition was too rough for spin device fabrication. We conducted pulse electrodeposition and obtained an ultra-thin film with smooth morphology and good magnetic property. | |
| キーワード | （和） | / / / / / / / |
| （英） | Three-dimensional domain wall motion memory / Electrodeposition / CoPt alloy / Perpendicular magnetic anisotropy / Spin-orbit torque / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 122, no. 297, MRIS2022-20, pp. 11-16, 2022年12月. | |
| 資料番号 | MRIS2022-20 | |
| 発行日 | 2022-12-01 (MRIS) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | MRIS2022-20 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | MRIS ITE-MMS |
| 開催期間 | 2022-12-08 - 2022-12-09 |
| 開催地（和） | 愛媛大学 + オンライン開催 |
| 開催地（英） | Ehime Univ. + Online |
| テーマ（和） | 信号処理，磁気記録，一般 |
| テーマ（英） | Signal Processing and Others |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | MRIS |
| 会議コード | 2022-12-MRIS-MMS |
| 本文の言語 | 英語（日本語タイトルあり） |
| タイトル（和） | 3次元磁気メモリの実現に向けたCoPtの電解めっき膜 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Electrophoretically deposited CoPt film for realization of 3D domain wall motion memory |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | / Three-dimensional domain wall motion memory |
| キーワード(2)（和/英） | / Electrodeposition |
| キーワード(3)（和/英） | / CoPt alloy |
| キーワード(4)（和/英） | / Perpendicular magnetic anisotropy |
| キーワード(5)（和/英） | / Spin-orbit torque |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 黄 童雙 / Tongshuang Huang / コウ ドウソウ |
| 第1著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 高村 陽太 / Yota Takamura / タカムラ ヨウタ |
| 第2著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 齋藤 美紀子 / Mikiko Saito / サイトウ ミキコ |
| 第3著者 所属（和/英） | 早稲田大学 (略称： 早大) Waseda University (略称： Waseda Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | エムディー マフムドゥル ハサン / Md Mahmudul Hasan / エム ディー ママダル ハサン |
| 第4著者 所属（和/英） | 早稲田大学 (略称： 早大) Waseda University (略称： Waseda Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 荒木 大輝 / Daiki Araki / アラキ ダイキ |
| 第5著者 所属（和/英） | 早稲田大学 (略称： 早大) Waseda University (略称： Waseda Univ.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 本間 敬之 / Takayuki Homma / ホンマ タカユキ |
| 第6著者 所属（和/英） | 早稲田大学 (略称： 早大) Waseda University (略称： Waseda Univ.) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 葛西 伸哉 / Shinya Kasai / カサイ シンヤ |
| 第7著者 所属（和/英） | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 (略称： 物質・材料研究機構) National Institute for Materials Science (略称： NIMS) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | 山田 啓介 / Keisuke Yamada / ヤマダ ケイスケ |
| 第8著者 所属（和/英） | 岐阜大学 (略称： 岐阜大) Gifu University (略称： Gifu Univ.) |
| 第9著者 氏名（和/英/ヨミ） | 園部 義明 / Yoshiaki Sonobe / ソノベ ヨシアキ |
| 第9著者 所属（和/英） | 早稲田大学 (略称： 早大) Waseda University (略称： Waseda Univ.) |
| 第10著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小野 輝男 / Teruo Ono / オノ テルオ |
| 第10著者 所属（和/英） | 京都大学 (略称： 京大) Kyoto University (略称： Kyoto Univ.) |
| 第11著者 氏名（和/英/ヨミ） | 中川 茂樹 / Shigeki Nakagawa / ナカガワ シゲキ |
| 第11著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2022-12-08 14:20:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | MRIS |
| 資料番号 | MRIS2022-20 |
| 巻番号（vol） | vol.122 |
| 号番号（no） | no.297 |
| ページ範囲 | pp.11-16 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2022-12-01 (MRIS) |
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