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講演抄録/キーワード
講演名 2022-12-22 16:50
[ポスター講演]SiO2遅延層を用いたGHz帯パルスエコー法による音響ブラッグ反射層の機械的通過損失の測定
近藤圭太石井直輝鈴木基嗣早大)・柳谷隆彦早大/JSTUS2022-65
抄録 (和) 一般的に音響ブラッグ反射器の特性評価には、ブラッグ反射層上に圧電薄膜を形成したSMR構造におけるインピーダンス特性が用いられる。しかしこの場合、圧電層の特性とブラッグ反射器単体の特性を分離して評価するのは困難である。本研究では、SiO2層を遅延層として用いて、超音波パルスエコー法によりブラッグ反射器単体における縦波・横波それぞれの機械的通過特性を評価した。測定したブラック反射器の機械的通過特性と機械回路から算出した理論値と比較した結果、よく一致し本手法の妥当性が確かめられた。 
(英) Experimental data of the sole Bragg reflector is difficult to be measured. This is because the property of a piezoelectric layer on Bragg reflector and that of the sole Bragg reflector is measured simultaneously in the standard impedance measurement. In this study, the method to evaluate the acoustic transmission loss for longitudinal wave and shear wave of the sole Bragg reflector by using pulse echo technique with SiO2 delay line is proposed.
キーワード (和) 音響多層膜共振子 / ブラッグ反射器 / パルスエコー法 / c軸傾斜配向ScAlN薄膜 / / / /  
(英) SMR / Bragg reflector / pulse echo technique / c-Axis tilted ScAlN film / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 122, no. 323, US2022-65, pp. 80-85, 2022年12月.
資料番号 US2022-65 
発行日 2022-12-15 (US) 
ISSN Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード US2022-65

研究会情報
研究会 EA US  
開催期間 2022-12-22 - 2022-12-23 
開催地(和) サテライトキャンパスひろしま 
開催地(英) Satellite Campus Hiroshima 
テーマ(和) <音響・超音波サブソサイエティ合同研究会>応用/電気音響,超音波一般 
テーマ(英) [Joint Meeting on Acoustics and Ultrasonics Subsociety] Engineering/Electro Acoustics, Ultrasonics, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 US 
会議コード 2022-12-EA-US 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) SiO2遅延層を用いたGHz帯パルスエコー法による音響ブラッグ反射層の機械的通過損失の測定 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) A method for evaluating acoustic Bragg reflector by GHz pulse echo technique with SiO2 delay line 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 音響多層膜共振子 / SMR  
キーワード(2)(和/英) ブラッグ反射器 / Bragg reflector  
キーワード(3)(和/英) パルスエコー法 / pulse echo technique  
キーワード(4)(和/英) c軸傾斜配向ScAlN薄膜 / c-Axis tilted ScAlN film  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 近藤 圭太 / Keita Kondo / コンドウ ケイタ
第1著者 所属(和/英) 早稲田大学/各務記念材料技術研究所 (略称: 早大)
Waseda University/ZAIKEN (略称: Waseda Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 石井 直輝 / Naoki Ishii / イシイ ナオキ
第2著者 所属(和/英) 早稲田大学/各務記念材料技術研究所 (略称: 早大)
Waseda University/ZAIKEN (略称: Waseda Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 鈴木 基嗣 / Motoshi Suzuki / スズキ モトシ
第3著者 所属(和/英) 早稲田大学/各務記念材料技術研究所 (略称: 早大)
Waseda University/ZAIKEN (略称: Waseda Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 柳谷 隆彦 / Takahiko Yanagitani / ヤナギタニ タカヒコ
第4著者 所属(和/英) 早稲田大学/各務記念材料技術研究所/JST-CREST/JST-FOREST (略称: 早大/JST)
Waseda University/ZAIKEN/JST-CREST/JST-FOREST (略称: Waseda Univ. /JST)
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講演者 第1著者 
発表日時 2022-12-22 16:50:00 
発表時間 120分 
申込先研究会 US 
資料番号 US2022-65 
巻番号(vol) vol.122 
号番号(no) no.323 
ページ範囲 pp.80-85 
ページ数
発行日 2022-12-15 (US) 


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