講演抄録/キーワード |
講演名 |
2023-01-27 13:40
ノーマリオフ型EID-AlGaN/GaN MOS-HEMTの大電流/高耐圧動作実証 ○南條拓真・品川友宏・綿引達郎・三浦成久・古橋壮之・西川和康(三菱電機)・江川孝志(名工大) ED2022-93 MW2022-152 |
抄録 |
(和) |
AlGaN/GaN High Electron Mobility Transistor(HEMT)は,通信用の高周波高出力増幅器だけではなく,電力変換用の高速高出力スイッチング素子として普及が進んでいる.我々は,高い信頼性/安定性とノーマリオフ動作を両立することを目的に,完全空乏化したAlGaN/GaNヘテロエピタキシャル層を用いた新規のExtrinsically electron Inducing by Dielectric(EID)構造を採用したプレーナ型のHEMT(EID AlGaN/GaN MOS-HEMT)を提案し,その検証を行なっている.今回,ゲート幅が42mmと150mmのマルチフィンガー型のSi基板上EID AlGaN/GaN MOS-HEMTを試作し,しきい値電圧0.5Vのノーマリオフ動作,20A以上のオン電流,210mΩのオン抵抗,1kV以上の耐圧を実証した. |
(英) |
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キーワード |
(和) |
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(英) |
AlGaN/GaN / HEMT / EID / thin barrier / MOS / 2DEG / high power / switching |
文献情報 |
信学技報, vol. 122, no. 370, ED2022-93, pp. 36-39, 2023年1月. |
資料番号 |
ED2022-93 |
発行日 |
2023-01-20 (ED, MW) |
ISSN |
Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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