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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2023-03-01 11:00 同一の回路構造のリングオシレータを用いた65nm FDSOIプロセスに発生するBTI劣化の実測評価 ○菊田大輔（京都工繊大）・岸田 亮（富山県立大）・小林和淑（京都工繊大）  VLD2022-73 HWS2022-44 |
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| 抄録 | （和） | 集積回路の微細化に伴いBTI (Bias Temperature Instability) などの経年劣化現象により回路の信頼性が低下している．BTIとは MOSFETの温度やゲートソース間の電圧などのストレスによって， MOSFETの特性が時間経過と共に劣化する現象であり， NMOSで発生するPBTI (Positive BTI)とPMOSで発生するNBTI (Negative BTI) がある．長期にわたって集積回路を使用するためには，回路設計時に劣化の見積もりを行い，設計マージンをとるなどの対策が必要である．高温，高電圧を用いた加速試験でBTIによる劣化をRO (Ring Oscillator)の発振周波数の変化として測定する．従来はNAND型，NOR型ROを用いて PBTIとNBTIの劣化率は測定，評価してきたが，回路構造が異なるため，PBTI ，NBTIの比較が難しいという問題があった．ここで，同一の回路構造でPBTIとNBTIを測定できる新たな構造の 65 nmプロセスROを設計し，劣化特性を比較した． PBTI型RO の劣化率はNBTI型RO より最大2.68倍大きく劣化した． |
| （英） | (Not available yet) | |
| キーワード | （和） | NBTI / PBTI / FDSOI (Fully Depleted Silicon on Insulator) / RO (Ring Oscillator) / / / / |
| （英） | / / / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 122, no. 402, VLD2022-73, pp. 1-6, 2023年3月. | |
| 資料番号 | VLD2022-73 | |
| 発行日 | 2023-02-22 (VLD, HWS) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | VLD2022-73 HWS2022-44 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | HWS VLD |
| 開催期間 | 2023-03-01 - 2023-03-04 |
| 開催地（和） | 沖縄県青年会館 |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | システムオンシリコンを支える設計技術, ハードウェアセキュリティ, 一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | VLD |
| 会議コード | 2023-03-HWS-VLD |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 同一の回路構造のリングオシレータを用いた65nm FDSOIプロセスに発生するBTI劣化の実測評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Measured Evaluation of BTI Degradation in a 65nm FDSOI Process using Ring Oscillators with Same Circuit Structure |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | NBTI / |
| キーワード(2)（和/英） | PBTI / |
| キーワード(3)（和/英） | FDSOI (Fully Depleted Silicon on Insulator) / |
| キーワード(4)（和/英） | RO (Ring Oscillator) / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 菊田 大輔 / Daisuke Kikuta / キクタ ダイスケ |
| 第1著者 所属（和/英） | 京都工芸繊維大学 (略称： 京都工繊大) Kyoto Institute of Technology (略称： KIT) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 岸田 亮 / Ryo Kishida / キシダ リョウ |
| 第2著者 所属（和/英） | 富山県立大学 (略称： 富山県立大) Toyama Prefectural University (略称： TPU) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小林 和淑 / Kazutoshi Kobayashi / コバヤシ カズトシ |
| 第3著者 所属（和/英） | 京都工芸繊維大学 (略称： 京都工繊大) Kyoto Institute of Technology (略称： KIT) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第4著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第5著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第6著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2023-03-01 11:00:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | VLD |
| 資料番号 | VLD2022-73, HWS2022-44 |
| 巻番号（vol） | vol.122 |
| 号番号（no） | no.402(VLD), no.403(HWS) |
| ページ範囲 | pp.1-6 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2023-02-22 (VLD, HWS) |
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