お知らせ 2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 電子情報通信学会における研究会開催について
お知らせ NEW 参加費の返金について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2023-03-01 15:20
ボロノイ図を用いたSRAF配置とLUTベース光強度評価による高速SRAF最適化手法
齊藤颯太堀本 遊高橋篤司東工大)・小平行秀会津大)・児玉親亮キオクシアVLD2022-80 HWS2022-51
抄録 (和) 近年,集積回路の微細化に伴い光リソグラフィにおいて転写パターンの忠実度の低下やプロセス変動耐性の低下が問題となっている.そのため,高い忠実度,高いプロセス変動耐性を高速に得るOPC(Optical Proximity Correction)が求められている.本研究では,事前実験により定めたパラメータによるルールとボロノイ図を利用し,SRAFの各セグメントを効果が期待でき,かつ,互いに重ならない領域に割当て,他と独立にLUT を用いた高速な光強度評価に基づき最適化するOPC 手法を提案する.セグメントの最適化と合わせ提案手法の有効性を確認した. 
(英) Recent advances in technology nodes have led to problems in optical lithography such as reduced fidelity of transferred patterns and reduced robustness against process variations. OPC(Optical Proximity Correction) that can achieve high fidelity and high process variation tolerance in short computation time is required. In this paper, we propose an OPC method for fast SRAF optimization in which Voronoi diagram and LUT based intensity evaluation are used.
キーワード (和) リソグラフィ / 解像度向上技術 / 光近接効果補正 / SRAF / PV band / ボロノイ図 / 最急降下法 /  
(英) computational lithography / RET / OPC / SRAF / PV band / Voronoi diagram / Gradient descent /  
文献情報 信学技報, vol. 122, no. 402, VLD2022-80, pp. 43-48, 2023年3月.
資料番号 VLD2022-80 
発行日 2023-02-22 (VLD, HWS) 
ISSN Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード VLD2022-80 HWS2022-51

研究会情報
研究会 HWS VLD  
開催期間 2023-03-01 - 2023-03-04 
開催地(和) 沖縄県青年会館 
開催地(英)  
テーマ(和) システムオンシリコンを支える設計技術, ハードウェアセキュリティ, 一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 VLD 
会議コード 2023-03-HWS-VLD 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) ボロノイ図を用いたSRAF配置とLUTベース光強度評価による高速SRAF最適化手法 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) A fast SRAF optimization using Voronoi diagram and LUT based intensity evaluation 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) リソグラフィ / computational lithography  
キーワード(2)(和/英) 解像度向上技術 / RET  
キーワード(3)(和/英) 光近接効果補正 / OPC  
キーワード(4)(和/英) SRAF / SRAF  
キーワード(5)(和/英) PV band / PV band  
キーワード(6)(和/英) ボロノイ図 / Voronoi diagram  
キーワード(7)(和/英) 最急降下法 / Gradient descent  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 齊藤 颯太 / Sota Saito / サイトウ ソウタ
第1著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 堀本 遊 / Yu Horimoto / ホリモト ユウ
第2著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 高橋 篤司 / Atsushi Takahashi / タカハシ アツシ
第3著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 小平 行秀 / Yukihide Kohira / コヒラ ユキヒデ
第4著者 所属(和/英) 会津大学 (略称: 会津大)
The University of Aizu (略称: Univ. of Aizu)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 児玉 親亮 / Chikaaki Kodama / コダマ チカアキ
第5著者 所属(和/英) キオクシア株式会社 (略称: キオクシア)
KIOXIA Corporation (略称: KIOXIA)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第6著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2023-03-01 15:20:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 VLD 
資料番号 VLD2022-80, HWS2022-51 
巻番号(vol) vol.122 
号番号(no) no.402(VLD), no.403(HWS) 
ページ範囲 pp.43-48 
ページ数
発行日 2023-02-22 (VLD, HWS) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会