講演抄録/キーワード |
講演名 |
2023-03-01 15:20
ボロノイ図を用いたSRAF配置とLUTベース光強度評価による高速SRAF最適化手法 ○齊藤颯太・堀本 遊・高橋篤司(東工大)・小平行秀(会津大)・児玉親亮(キオクシア) VLD2022-80 HWS2022-51 |
抄録 |
(和) |
近年,集積回路の微細化に伴い光リソグラフィにおいて転写パターンの忠実度の低下やプロセス変動耐性の低下が問題となっている.そのため,高い忠実度,高いプロセス変動耐性を高速に得るOPC(Optical Proximity Correction)が求められている.本研究では,事前実験により定めたパラメータによるルールとボロノイ図を利用し,SRAFの各セグメントを効果が期待でき,かつ,互いに重ならない領域に割当て,他と独立にLUT を用いた高速な光強度評価に基づき最適化するOPC 手法を提案する.セグメントの最適化と合わせ提案手法の有効性を確認した. |
(英) |
Recent advances in technology nodes have led to problems in optical lithography such as reduced fidelity of transferred patterns and reduced robustness against process variations. OPC(Optical Proximity Correction) that can achieve high fidelity and high process variation tolerance in short computation time is required. In this paper, we propose an OPC method for fast SRAF optimization in which Voronoi diagram and LUT based intensity evaluation are used. |
キーワード |
(和) |
リソグラフィ / 解像度向上技術 / 光近接効果補正 / SRAF / PV band / ボロノイ図 / 最急降下法 / |
(英) |
computational lithography / RET / OPC / SRAF / PV band / Voronoi diagram / Gradient descent / |
文献情報 |
信学技報, vol. 122, no. 402, VLD2022-80, pp. 43-48, 2023年3月. |
資料番号 |
VLD2022-80 |
発行日 |
2023-02-22 (VLD, HWS) |
ISSN |
Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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VLD2022-80 HWS2022-51 |