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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2023-03-04 11:05 ナノ人工物メトリクスの耐クローン性：走査型プローブリソグラフィによるクローンの作製 ○吉田直樹・岩橋 虎（横浜国大）・法元盛久・太田淳子・角谷 薫（産総研）・松本 勉（横浜国大）  VLD2022-117 HWS2022-88 |
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| 抄録 | （和） | ナノ人工物メトリクスはナノメートルオーダーの３次元構造（ナノパターン）が複製困難であることをそのセキュリティの根拠としている．ただし微細加工技術は日々進歩していくので，そのような技術を用いて作製できる現実的なクローン（模倣物）をナノ人工物メトリックシステムが実際に拒否できることを確認しておくことが重要である．そこで我々は，電子線リソグラフィにおけるレジスト倒壊現象を用いてシリコンウェハ上に形成されたランダムなナノパターンを用いるナノ人工物メトリックシステムの耐クローン性を実証するために，最先端の微細加工技術である走査型プローブリソグラフィによるクローン作製プロセスを確立した．このプロセスを用いて作製されたクローンは，オリジナルのナノパターンに対して，AFM（原子間力顕微鏡）で計測した形状において，0.6程度の相関係数を有するものとなっている． |
| （英） | The nano-artifact metrics bases its security on the fact that nanometer-order three-dimensional structures (nanopatterns) are difficult to replicate. However, as microfabrication techniques advance day by day, it is important to ensure that the nano-artifact metric system can actually reject realistic clones (imitations) that can be produced using such techniques. Therefore, we have established a cloning process using scanning probe lithography, a state-of-the-art microfabrication technique, in order to evaluate the cloning resistance of a nano-artifact metric system using random nanopatterns formed on a silicon wafer using the resist collapse phenomenon in electron beam lithography. Each of clones produced using this process has a correlation coefficient of around 0.6 with respect to the original nanopattern in geometry measured by AFM (Atomic Force Microscopy). | |
| キーワード | （和） | 人工物メトリクス / クローン / 走査型プローブリソグラフィ / / / / / |
| （英） | Artifact Metrics / Clone / Scanning Probe Lithography / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 122, no. 403, HWS2022-88, pp. 245-250, 2023年3月. | |
| 資料番号 | HWS2022-88 | |
| 発行日 | 2023-02-22 (VLD, HWS) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | VLD2022-117 HWS2022-88 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | HWS VLD |
| 開催期間 | 2023-03-01 - 2023-03-04 |
| 開催地（和） | 沖縄県青年会館 |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | システムオンシリコンを支える設計技術, ハードウェアセキュリティ, 一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | HWS |
| 会議コード | 2023-03-HWS-VLD |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | ナノ人工物メトリクスの耐クローン性：走査型プローブリソグラフィによるクローンの作製 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Clone Resistance of Artifact Metrics: Scanning Probe Lithography Based Clones |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 人工物メトリクス / Artifact Metrics |
| キーワード(2)（和/英） | クローン / Clone |
| キーワード(3)（和/英） | 走査型プローブリソグラフィ / Scanning Probe Lithography |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 吉田 直樹 / Naoki Yoshida / ヨシダ ナオキ |
| 第1著者 所属（和/英） | 横浜国立大学 (略称： 横浜国大) Yokohama National University (略称： YNU) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 岩橋 虎 / Akira Iwahashi / イワハシ アキラ |
| 第2著者 所属（和/英） | 横浜国立大学 (略称： 横浜国大) Yokohama National University (略称： YNU) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 法元 盛久 / Hoga Morihisa / ホウガ モリヒサ |
| 第3著者 所属（和/英） | 国立研究開発法人 産業技術総合研究所 (略称： 産総研) National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： AIST) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 太田 淳子 / Junko Ohta / オオタ ジュンコ |
| 第4著者 所属（和/英） | 国立研究開発法人 産業技術総合研究所 (略称： 産総研) National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： AIST) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 角谷 薫 / Kaoru Sumiya / スミヤ カオル |
| 第5著者 所属（和/英） | 国立研究開発法人 産業技術総合研究所 (略称： 産総研) National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： AIST) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 松本 勉 / Tsutomu Matsumoto / マツモト ツトム |
| 第6著者 所属（和/英） | 横浜国立大学 (略称： 横浜国大) Yokohama National University (略称： YNU) |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2023-03-04 11:05:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | HWS |
| 資料番号 | VLD2022-117, HWS2022-88 |
| 巻番号（vol） | vol.122 |
| 号番号（no） | no.402(VLD), no.403(HWS) |
| ページ範囲 | pp.245-250 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2023-02-22 (VLD, HWS) |
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