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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2023-04-22 13:35 ［招待講演］エキシマレーザアニールによるSi薄膜の結晶化技術 ～ 温故知新になる事を期待して ～ ○栗山博之（高砂熱学）  SDM2023-13 OME2023-13 |
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| 抄録 | （和） | エキシマレーザによるSi薄膜の結晶化技術はスマートフォン等に用いられている低温ポリシリコン（LTPS）液晶ディスプレイの中核技術として1996年に世界で初めて三洋電機とソニーの協業で実用化されてから既に27年になる。 今から30年以上前、基礎研究から応用研究、早期事業化を目指して自身で研究開発に取組んだ、エキシマレーザアニールによるSi薄膜の結晶化研究（溶融Si凝固過程制御による大粒径化、配向制御、大面積均一化等）の振り返りが今後の更なる本分野の研究発展の何等かのお役立ち、温故知新となれば幸いである。 |
| （英） | Si thin film crystallization technology using an excimer laser was first put into practical use in 1996 as a core technology for low-temperature polysilicon (LTPS) liquid crystal displays used in smartphones etc. through collaboration between SANYO Electric Co., Ltd and Sony Corporation. More than 30 years ago, aiming for early commercialization from basic research to applied research, I worked on the extensive research of Si thin film crystallization by excimer laser annealing, such as enlargement of grain size by melted Si solidification control, orientation control and uniformity improvement etc. I hope that this review of past my research approaches will be of some use to the further development of research in this field, and that it will serve as a source of wisdom from the past. |
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| キーワード | （和） | エキシマレーザ / 結晶化 / Si薄膜 / 粒径 / 配向制御 / 薄膜トランジスタ / 液晶ディスプレイ / 有機EL |
| （英） | Excimer laser / Crystallization / Si thin film / Grain size / Orientation control / TFT / Display / OLED | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 123, no. 8, SDM2023-13, pp. 48-51, 2023年4月. | |
| 資料番号 | SDM2023-13 | |
| 発行日 | 2023-04-14 (SDM, OME) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | SDM2023-13 OME2023-13 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM OME |
| 開催期間 | 2023-04-21 - 2023-04-22 |
| 開催地（和） | 沖縄県青年会館 |
| 開催地（英） | Okinawaken Seinen Kaikan |
| テーマ（和） | 薄膜（Si,化合物,有機,フレキシブル）機能デバイス・バイオテクノロジー・材料・評価技術および一般 |
| テーマ（英） | Thin film devices (Si, compound, organic, flexible), Biotechnology, Materials, Characterization, etc. |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2023-04-SDM-OME |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | エキシマレーザアニールによるSi薄膜の結晶化技術 |
| サブタイトル（和） | 温故知新になる事を期待して |
| タイトル（英） | Crystallization technology of Si thin film by excimer laser annealing |
| サブタイトル（英） | Hoping to become some lesson from the past |
| キーワード(1)（和/英） | エキシマレーザ / Excimer laser |
| キーワード(2)（和/英） | 結晶化 / Crystallization |
| キーワード(3)（和/英） | Si薄膜 / Si thin film |
| キーワード(4)（和/英） | 粒径 / Grain size |
| キーワード(5)（和/英） | 配向制御 / Orientation control |
| キーワード(6)（和/英） | 薄膜トランジスタ / TFT |
| キーワード(7)（和/英） | 液晶ディスプレイ / Display |
| キーワード(8)（和/英） | 有機EL / OLED |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 栗山 博之 / Hiroyuki Kuriyama / クリヤマ ヒロユキ |
| 第1著者 所属（和/英） | 高砂熱学工業株式会社 (略称： 高砂熱学) Takasago Thermal Engineering Co.,Ltd. (略称： TTE) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2023-04-22 13:35:00 |
| 発表時間 | 35分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | SDM2023-13, OME2023-13 |
| 巻番号（vol） | vol.123 |
| 号番号（no） | no.8(SDM), no.9(OME) |
| ページ範囲 | pp.48-51 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2023-04-14 (SDM, OME) |
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